高密度磁记录用FePtTa多层膜微结构与磁性-河北师范大学学报.PDFVIP

( ) 第 30 卷 第 1 期 河北师范大学学报 自然科学版 Vol . 30 No . 1 2006 年 　1 月 Journal of Hebei Normal University (Natural Science Edition) J an . 2006 高密度磁记录用 FePt/ Ta 多层膜微结构与磁性 甄聪棉 , 　翟晓霞 , 　马 　丽 , 　聂向富 (河北师范大学 物理科学与信息工程学院 ,河北 石家庄 　0500 16) ( ) ( 摘 要 :采用直流对靶磁控溅射方法生长了 FePt/ Ta 多层膜. X 射线衍射 XRD 分析表 明[ FePt 2 . 5 nm) / Ta (2 . 5 nm) ]5 样品经过 650 ℃退火实现了从无序到有序的转变. 磁测量表明当 Ta 层厚度为 2 . 5 nm 时 , - 1 ( ) FePt 的磁特性达到最好 ,矫顽力为 543 . 4 kA ·m ,矩形比也达到最大 0 . 805 59 . 原子力显微图观察发现 , 650 ℃退火后的样品纳米晶粒分布比较均匀 ,粒径大约为 10 ～20 nm . 磁力显微图观察说明大量粒子取向一 致. 计算得到激活体积远大于晶粒体积的事实说明薄膜的磁化反转过程主要是由磁矩转动控制的. 关键词 :磁记录 ; FePt ; 多层膜 ; XRD ; V SM 中图分类号 :O 484 . 4 + 3 　　　文献标识码 :A 　　　文章编号 (2006) 0 1003604 随着信息技术的迅猛发展 ,磁记录技术和介质正借助许多重大科技成果的继续前进 ,不断取得新进 展 ,在高密度 、高性能、大容量 、小型化 、数字化方面获得重大进步. 磁记录正由微米向纳米 、氧化物向金 属时代突飞猛进. 磁记录介质只有实现高密度化 ,才能适应当代及未来高密度记录和大容量化的要求 , 在信息技术领域保有一席之地. ( 3 ) 等原子比的L 1 相 FePt 由于其具有非常高的磁晶各向异性 K ≈6 MJ / m 、很好的化学稳定性 、 0 μ 抗腐蚀性等许多优异性能 ,而成为一种应用潜力很大的高密度磁记录材料[ 1 ] ;但是 ,一般的沉积方法制 ( ) 备的薄膜都是软磁相 面心立方相 - fcc 的 ,在生长过程中给衬底加一定高温或生长后高温退火 ,才能 ( ) [2 ,3 ] 得到有序的L 10 相 面心四方相 - fct 结构 ,如图 1 所示. 另外 ,实验发现掺杂一定量的非磁性物质 , 如 C[4 ,5 ] ,Ag[6 ] ,Cu [7 ] 等 ,可以有效地抑制磁性晶粒增长 ,减小它们之间