PVD设备及工艺简介-必读.pptVIP

溅射源 三、维护与保养: (一). 矩形平面磁控靶的维护与保养: 1、矩形平面磁控靶的日常维护与保养,其重点就是平面靶材更换作业的过程.其具体解释为: 靶材寿命到期或工艺及质量要求等原因,将在用靶材拆下,安装上相同规格尺寸新靶材的过程. 2、靶材安装前处理: 除油 → 喷砂 → 清洗 → 烘烤→ 入PVD备用 3、结构与说明: 溅射源 平面靶磁铁布局及说明（图） 安装磁铁过程中,外围区域的磁铁磁极必须保持一致.中间区域的磁铁磁极与外围区域磁铁磁极必须保持相反.如图???区磁铁磁极可为NSN,也可为SNS.可手挡一块磁铁,根据磁铁同极相斥,异极相吸的原理,逐个单一的判定磁铁极性是否安装错误)。 溅射源 (二). 圆柱形磁控溅射靶 1、结构与说明（图）： 溅射源 圆柱靶磁铁布局及说明（图）： 由于相对应靶材面不一样,圆柱靶磁铁布局相对平面靶磁铁布局要紧促的多,图中宽度还不到平面靶的一半(50mm). 由于磁铁相对紧促,区域磁铁之间(???之间)安装有导磁材料,既方便安装又可有效的固定磁铁和磁路的控制. 圆柱靶磁铁也采用了强力磁铁(4.5Kgauss),中间区域的磁铁安装为尺寸较宽的规格,外围区域的磁铁安装尺寸较窄的规格、区域之间磁铁极性必须保持相反,跟平面靶布局同等原理.如图中???区域磁铁磁极可为NSN,也可为SNS(根据工艺自行决定),检查时跟平面靶一样,手持一块磁铁,根据磁铁同极相斥,异极相吸的原理,逐个单一的判定磁铁极性是否安装错误. 相对圆柱靶靶材为管形,和平面靶材不一样,所以固定磁铁的磁铁座为凸形,如图中所示.而平面靶磁座则为平面。 真空测量 真空测量 真空测量 1. 薄膜真空规: 用金属弹片薄膜把规管分隔成两个小室,一侧接被测系统,另一侧作为参考压力室.当压力变化时薄膜随之而变形,其变形量可用光学方法测量,也可转换为电容或电感量的变化用电学方法来测,还可用薄膜上粘附的应度规来进行测量. 电容薄膜规分为两种类型: 一种将薄膜的一边密封为参考真空,成为“绝压式”电容薄膜规;另一种是薄膜的两边均通入气体,成为“差压式”电容薄膜规.电容薄膜规具有卓越的线性,较高的测量精度和分辨率.单个传感器的测量范围可覆盖5个数量级的压力区间,短期稳定性优于0.1%,长期稳定性(一年)优于0.4%.电容薄膜规的灵敏度与气体种类无关,可测蒸气和腐蚀性气体的压力,结构牢固,使用方便,还可作为粗低真空的副标准和传递标准。 真空测量 电容薄膜规的基本结构如下图所示. 它由两个结构完全相同的固定电极和一个公用的活动电极组成.活动电极薄膜将空间分成互相密封的测量室和参考室,固定电极和活动电极薄膜构成差动电容器并作为电桥的两个桥臂.当活动电极处于中间位置时,两个电容的电容量相等,一旦活动电极由于压差作用偏离中间位置时,则一个电容器增加而另一个电容器的电容减小,由于电容变化造成电桥不平衡,因而产生输出电压,这个电压经过放大器放大后,由检波器转换成直流电压进行测量,不同的输出电压对应于不同的压力,电容薄膜现就是利用这样的原理达到测量压力的目的. 真空测量 2. 热偶真空规: 普通型热偶真空计分为长丝和短丝两种,长丝热偶的加热电流约在90mA~150mA,短丝热偶的加热电流约在28mA~30mA,测量范围一般在4×102Pa~1×10-1Pa,带温度补偿的定温式热偶真空计的测量范围1×105Pa~1×10-1Pa.多数热偶规是按定流型的方式做的,即加热电流i为常数.因此加热丝F的温度是随压力P而变化的,所以可用热偶J来测量热丝温度,此时输出信号为热电势E.即，当压力降低时，气体分子传导走的热量减少，热丝温度随之升高，故热电偶电势E增大，反之，热电偶电势E减小。如果预先已测出热电偶电势E与压力的关系，那就可根据毫伏表的指示直接给出被测系统的压力。 真空测量 3. 电阻真空规(热阻真空规): 电阻真空规是皮拉尼在1906年发明的,故又称皮拉尼规.这种规的热丝温度是随压力而变化的,由于温度的改变导致热丝电阻的变化,用测量电阻的变化来测量真空度. 4. 电离真空规: 由收集极、栅网、灯丝构成。热阴极灯丝发射的电子；由带正电的栅网进行加速，得到充足的撞击能量；气体分子与高速飞行的电子发生碰撞而被电离，碰撞的频率与气体分子的密度有关。密度大， 碰撞的频率就高，产生的离子也越多，反之就越小；而气体分子的密度又与气体的压强有着直接关系, 因此, 如果能测定气体中被电离的离子流的大小, 即可确定气体的压强；带负电压的收集极捕获被电离的气体离子，就形成了与气体压强成比例的电流，测到了真空度。 真空测量 真空检漏 真空检漏 真空检漏 定义: 检漏-----泄漏检测,寻找漏气部位及测量漏率大小的过程(漏气是绝对的,不漏气是相对的,绝对不漏气是不存在的.我们通常所说的