对离子进行聚焦作用.PPT

* 离子注入机简介 ★ 离子注入机的种类 NV10-180 NV10-160SD NV10-160 NV10-80 大束流 mA NV6200A 350D 中束流 μA ★6200、NV10160、10180、10160SD简介 离子注入机按照真空系统分为三个部分 SOURCE BEAM LINE END STATION DISK FARADAY ANALYZER ACCELERATION FLAG FARADAY FILAMENT ARC VAPORIZER SOURCE MAGNET SUPPRESSION EXTRACTION (HV) NV10160 NV10180 NV10160SD FARADAY SYSTEM END STATION CONTROL ANALYZER SUPPRESSION ACCELERATION Q-LENS X 、Y SCAN FILAMENT ARC EXTRACTION ACCEL / DECEL SUPPRESSION 6200 END STATION BEAM LINE SOURCE 各部分包括的控制器 ★ 离子注入的原理 离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流，以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转，选出我们所需的离子，通过加速高压的作用获得一定的能量，离子通过透镜的聚焦后，以一定的扫描方式打入硅片。 ★ 离子源的工作原理 当离子源的灯丝通过足够大的直流电流时，灯丝受热后发射的热电子在ARC 电压、源磁场的共同作用下做螺旋状运动与工艺气体碰撞后，工艺气体发生电离产生离子。 ★ 质量分析器 洛仑磁力： F=qvB R=mv/qB 带电粒子进入磁场受到力的作用后发生偏转。 11B+、 31P+、 40Ar+、 75As+、 121Sb+ 350D：先分析后加速。 NV1080：先加速后分析。 ★ Q-LENS 静电四极透镜 静电四极透镜：对离子进行聚焦作用。 加速后的离子在Q-LENS静电四极透镜的作用下被聚焦成较小的束斑。 ★ FARADAY SYSTEM FARADAY的作用是测量束流，通过DOSE控制器精确地计量注入到硅片上的剂量。 BEAM SETUP：束流打在FLAG FARADAY IMPLANT：束流打在END STATION（350D） 束流打在DISK （NV1080） 谢谢！ 2006.8.2 *