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金相的分析的总结
金相试样的制备步骤:取样、镶嵌、标识、磨光、抛光、显示
⑴若选取的试样的形状、大小便于用手握持,则不必镶嵌
⑵若检验非金属夹杂物或铸铁中石墨,就不必进行侵蚀
纵断面主要用于:
检验非金属夹杂物的数量、大小和形状
检验晶粒的变形程度和锻造显微组织
检验钢材的带状组织,及通过热处理对带状组织的消除程度
横断面主要作用于:
检验从表面到中心金相组织变化情况及偏析
检验表层各种缺陷
检验表面热处理结果
检验非金属夹杂物在整个断面上的分布
测定晶粒度等
镶嵌分为:有机材料镶嵌法、机械夹持法
金属变形层(金属扰乱层):金相试样在制备中磨面的微观变化,严重变形的粉末金属与磨料的混合物,形成了高度变形玷污区(污染区)
金属变形层的危害:若抛光后未完全消除金属扰乱层,则侵蚀后在金相显微镜下就观察不到真实组织而出现假象
故磨光和抛光时试样制备中极为重要的两道工序
扰乱层的产生:
使用外形圆润的抛光粉
抛光压力过大(磨光)
扰乱层变薄:①减轻磨光、抛光压力
②使用外形尖锐的抛光粉
完全避免:不用机械抛光,改用化学抛光
消除:扰乱层较厚的试样,一次侵蚀不能将其消除,可采用抛光、侵蚀交替进行法,直至真是组织清晰为止
磨光的目的:①得到平整光滑的磨面
②莫面上允许有极细儿均匀,单一方向的磨痕
抛光目的:消除试样细磨时所留下的细微磨痕,得到平整光滑的镜面
机械抛光、电解抛光、化学抛光、复合抛光
机械抛光原理:抛光微粉与磨面间的相对机械作用使磨面变成光滑镜面的过程
主要作用:①磨削(切削)作用【主要作用】
②滚压作用
化学抛光:将试样侵入一定成分的溶液中,依靠化学药剂对表面的不均匀性溶解,得到 波浪形的平面
不适于高倍观察,适合低、中倍
化学侵蚀法:将抛光好的金相试样,侵入化学试剂中,或用化学试剂揩擦试样磨面,显示出显微组织的方法
侵蚀原理
侵蚀时间及深浅程度:当抛光面失去光泽变成灰暗即可【变黑说明寝室过度】
常见宏观缺陷的特征及产生原因:
⑴缩孔 特征:横向截面上的试样轴心处,呈现不规则的空洞或裂纹
产生原因:钢液在冷凝时,发生体积集中收缩
⑵中心疏松
⑶偏析
⑷裂纹
透镜的象差:实际成象与理想成象之间的偏离就是光学系统的象差
象差的危害:影响象的清晰度和物、象之间的相似性
物镜类型按象差校正程度分为:消色差物镜【结构最简单】、复消色差物镜、半复消色差物镜
平场复消色差物镜除具有复消色差物镜的优点之外,场曲能得到进一步校正
数值孔径:表征物镜的聚光能力,NA表示
NA=n sinα n-介质的折射率 α孔径角
物镜的孔径角和介质的折射率越大,咋孔径数值越大
增加孔径角的途径:①增加透镜的直径
②缩短物镜的焦距【常用方法】
物镜的分辨力是指物镜对显微组织构成清晰可分辨的能力,一般用能分辨两点间最小距离d的倒数1/d
d=0.5λ/NA=λ/2NA
景深:
惠更斯目镜:凉快相同玻璃制成的平凸透镜组成
主要作用:①放大作用
②使映像亮度均匀
焦点位于两透镜之间,不单独作为放大镜使用,又称负型目镜
补偿目镜【能校正垂轴色差】可单独作为放大镜使用为正型目镜
科勒照明特点: ①照明均匀②光利用率高,照明效果好
临界照明特点:①光能利用率高。亮度高②适用于高倍率摄影照明
照明方式:明场照明 暗场照明
明场照明特点:光束两次穿过物镜,故物镜起着聚光与放大的双重作用
暗场照明:试样的组织便已明亮的物象映衬在暗黑的视场内
特点:光束一次穿过物镜,放大作用
显微镜光学行程:分为直立和倒立行程
直立光程:金相试样的磨面向上、物镜向下的光学布置
缺点:①只有试样的上下表面保持平行时,才能在真个视域内获得清晰的象
②试样放在镜筒下面,镜筒的上升高度有限,过于高大的试样难于使用
倒立光程特点:①试样磨面磨平就可观察分析
②试样放在载物台上部,空间不受限,可安放尺寸较大的式样
视场光阑:限制光学 成象范围的光阑
金相摄影包括:实物、低倍摄影与显微摄影
反差系数:指胶片拍摄冲洗后的影象明暗程度(黑白对比度)与远景物的明暗程度的比值
卤化银颗粒细而均匀,反差系数就打;颗粒粗而不均匀,反差系数就小
宽容度:表示胶片表达被摄物全部亮度范围的能力(伸缩性)
与银盐的粒度有关,颗粒越细。宽容度小:反之,大
30.低倍摄影 与实物摄影 凸透镜成像 实像
31.双
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