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化工机电
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§1.半导体三极管:
一.基本结构:三层半导体(N、P、N或P、N、P);三个电极(基极B、发射极E和集电极C);两个PN结(发射结、集电结)。
1.类别:
按频率可分为:高频管和低频管
按功率可分为:大功率管、中功率管和小功率管
按半导体材料可分为:硅管和锗管
按结构可分为:NPN型和PNP型。
目前国产的NPN型多为硅管(3D系列),PNP型多为锗管(3A系列)。
2.放大器中晶体管的三种接线方式:以NPN型为例
(1)共发射极接法:将发射极作为输入与输出的公共端。如下图(a)
(2)共集电极接法:将集电极作为输入与输出的公共端。如下图(b)
(3)共基极接法:将基极作为输入与输出的公共端。如下图(c)
三种接法的性能比较见P.31表3-1
3.特性曲线:
(1)输入特性曲线:是当集电极—发射极电压UCE为常数时,基极回路中基极电流IB与基极—发射极电压UBE之间的关系曲线。即:
IB=f(UBE)|UCE=C 如下图(a)所示:
从图(a)中可以看出:三极管的输入特性曲线也有一段死区,只有在发射结电压大于死区电压时,三极管才会导通,出现IB,硅管的死区电压约为0.5~~~~°截止区:IB=0以下的区域。对NPN型硅管而言,当UBE<≤0,此时集电结和发射结都处于反向电压下,称为反向偏置。但是由于温度影响,集电极回路中仍有很小的电流ICEO(称为穿透电流)流过。硅管的穿透电流很小,常温下在微安以下。
特点:集电结和发射结都处于反向偏置。
2°放大区:当发射结正向偏置时,曲线较平坦的部分是放大区。对硅管来说,当UBE>≈IE,IB很小。此时IC只随着IB而改变,和UCE的大小基本无关。从特性曲线和电流形成过程都可以看出,IC的变化比IB的变化大得多,晶体管具有很强的电流放大作用。
特点:发射结正偏而集电结反偏。
3°饱和区:如果IC随IB增加时,使UCE下降为UCE≤UBE,发射结和集电结都将处于正向偏置,此时如果IB再增大,IC也不会按IC=βIB增加,晶体三极管失去放大作用,这种情况称为饱和。我们把UCE=UBE的状态称为临界饱和,把UCE<~~~~rbe: rbe=300+(1+β)26mV/IeQmA
B.求出交流负载电阻RL′: RL′= Rc∥RL
C.求输入电阻Ri: Ri=Rb1∥Rb2∥rbe ≈ rbe
(∵Rb1 >>rbe ,Rb2 >>rbe , ∴Ri ≈ rbe)
D.求输出电阻R0:R0 ≈ Rc
其中:RL′= Rc∥RL
“-”号表示UO与Ui反相位。
☆ 计算放大电路的静态工作点时,应考虑电路的名称正确的是 A、C 。
A.直流通道 B.交流通道 C.直流电路 D.交流电路
☆ 估算放大电路的电压放大倍数,原则上应考虑电路的名称正确的是 B、D 。
A.直流通道 B.交流通道 C.直流电路 D.交流电路
四.图解分析法:运用三极管的输出、输入特性曲线簇,通过做图的方法,直观的分析放大电路性能的方法,称为图解分析法。
1.静态分析:P.138图9-4为三极管的输出特性曲线。即图(a)
(1)直流负载线:电路如P.137图9-3所示,即图(b)由Uce=UGB-IcRc
知,当Ic=0时,Uce=UGB,当Uce=0时,Ic=UGB/Rc,连接UGB与
UGB/Rc两点所作的直线称为直流负载线。见P.138图9-4,即图(b)
(因为它是在静态时得到的而且又与集电极负载电阻Rc有关)
其斜率为tgα=1/Rc。
(2)静态工作点Q:直流负载线与三极管输出特性曲线的交点即为静态工作点。它与基极电流I b的大小有关。
Q点在两个坐标轴上所对应的点即为其静态值ICQ与UCEQ,再加上IbQ ,即为Q值。
2.动态分析:
(1)交流负载线:放大器加入交流信号后,交流信号迭加在直流信号上,如P.138图9-5所示。
当电路接入负载RL后,反映交流电压uce、交流电流ic之间关系的直线称为交流负载线。其斜率为tgα′=1/RL′。(而RL′= Rc∥RL)
( 2 ) 直流负载线与交流负载线的比较:见图(b)
∵RL′= R
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