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Ce¨YAG晶体位错的研究
维普资讯
第 34卷 第 5期 人 工 晶 体 学 报 Vo1.34 No.5
2005年 10月 JOURNAL OF SYNTHEnC CRYSTALS October.20o5
Ce¨:YAG晶体位错的研究
王召兵 ,张庆礼 ,殷绍唐 ,孙敦陆 ,苏 静 ,张 霞 ,邵淑芳
(1.中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥230031;2.曲阜师范大学激光研究所,曲阜273165)
摘要:本文报导了用中频感应加热提拉法生长ce¨:YAG晶体,直径达45ram。对样品采用不同的化学试剂进行了
时间不等的腐蚀 ,用偏光显微镜观察到不同形貌的位错蚀坑,分析了位错与晶体结构及生长工艺参数等因素之间
的关系。
关键词 :Ce¨:YAG晶体;提拉法;缺陷;位错;无机闪烁晶体
中圈分类号~0771 文献标识码 :A 文章编号:1000-985X(2005)05-0861-04
StudyonDislocationofCe¨:YAG Crystal
WANGZhao.bing ,ZHANGQing.1.i.,YINShao.tang,SUNDun.1u,SUJing ,ZHANGXia,SHAOShu扣ng
(1.AnhuiInstituteofOpticsandFineMechanics,ChineseAcademyofSciences,Hefei230031,China;
2.LaserResearchnIstiutteofQufIINormalUniversity,QufII273165,China)
(Received17January2005)
A :rI1legrowthofCe¨ :YAG singlecrystalbytheCzochralskimehtodwiht medium frequency
inductionheatingisreportedinhtispaper.Thesinglecrystalwas45ram indiameter.Thesmaplewas
etchedwiht differentetchantsinhtedffierentperiods.Etchpitswiht dffierentpatternswere observed
underhtepolarizationmicroscope.’Th erelationsbetweendislocationandstructureofcrystalnadgrowth
technicalparma eterwere investigated.
Keywords:Ce¨ :YAG crystal;Czochralskimehtod;defect;dislocation;inorgna icscintillator
1 引 言
闪烁材料在高能物理、医疗成像以及工业和安全检测等领域有广泛应用。ce¨:YAG晶体属立方晶系,
石榴石型结构,空间群是o .Ia3d,Ce 离子在YAG中取代十二面体位置的Y¨离子。作为闪烁材料,Ce¨:
YAG晶体具有热导率大、发光效率高和衰减时间短等优点,可以用作扫描电子显微镜的显示元件,在大规模
集成电路的检测及光电探测方面有重要的应用。
Ce¨:YAG晶体生长过程中产生的缺陷有 :开裂、气泡、包裹物、核心、生长条纹及位错等。晶体中的缺
陷会降低材料的发光效率,并影响光学质量 ],因此,晶体缺陷的研究具有重要意义。Ce¨:YAG晶体中位
错的密度大小和分布将引起应力双折射效应并影响晶体的发光性能 ,对Ce :YAG晶体的位错进行研究
将有利于改进和完善生长工艺、提高晶体质量。
腐蚀法是一种破坏性检验,对于非晶、多晶、镶嵌块、表面潜伤 (直接观察不到的划痕、压痕等)和位错都
可以通过腐蚀显现出来 ]。本文采用HPO 等不同的腐蚀剂对Ce¨:YAG晶体样品进行了不同时间的腐
蚀,研究了位错的形貌、分布及形成原因。
收稿 日
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