材料成型技术04第四章钢的热处理-1.ppt

三、 气相沉积技术 1. 气相沉积技术简介??? 气相沉积技术是指在真空下用各种方法获得的气相原子或分子在基体材料表面沉积以获得薄层镀膜的技术。它既适合于制备超硬、耐蚀、耐热、抗氧化的机械薄膜，又适合于制备磁记录、信息存储、光敏、热敏、超导、光电转换等功能薄膜，还可用于制备装饰性镀膜。 ① 气相沉积技术的分类?????? 物理气相沉积PVD(Physical Vapour Deposition)?????? 化学气相沉积CVD (Chemical Vapour Deposition)??? ② 气相沉积的基本步骤????? ? 提供气相镀料??????? 镀料向所镀制的基体材料的输送??????? 镀料在基体材料上沉积成膜??? ③ 常用的超硬耐磨涂层???????? TiC、TiN、Ti(C,N)、(Ti,Al)N、Cr7C3、Al2O3、C-BN 等。 2. 物理气相沉积??? 在沉积环境中，以各种物理方法产生的原子或分子沉积在基体上，形成薄膜或涂层的过程称为物理气相沉积（PVD）。(1) 真空蒸镀??? 在高真空中使金属合金或化合物蒸发，然后凝聚在基体表面上的方法称为真空蒸镀。??? 1） 影响真空蒸镀膜质量的主要因素? 基材表面状态、基材温度、蒸镀温度、基材表面粗糙度、表面显微组织等??? 2） 真空蒸镀时所用热源的种类? 电阻加热源、电子束加热源、高频感应加热源、激光加热源、离子蒸镀源? (2) 阴极溅射沉积??? 阴极溅射沉积是用荷能粒子轰击某一靶材(阴极)使靶材表层原子以一定的能量逸出，然后在基材表面沉积成膜的过程。阴极溅射沉积的主要特点： 结合力高, 容易得到高熔点物质的薄膜, 可以在较大面积上得到均一的薄膜, 可以控制膜的组成，制出合金膜, 可以长时间地连续运转, 有良好的再现性,几乎可以制造一切物质的薄膜。(3) 磁控溅射沉积??? 磁控溅射沉积的特点是在阴极靶面建立了一个环形磁场，以控制二次电子的运动，离子轰击靶面所产生的二次电子在阴极暗区被电场加速之后飞向阳极。 阴极溅射沉积系统简图 (4) 离子镀??? 在镀膜的同时，采用带能离子轰击基材表面和镀膜层的镀膜技术称为离子镀。离子轰击的目的在于改善膜层的性能。?? 离子镀的特点 粘着力强、均镀能力好、被镀基体材料和镀层材料可广泛搭 配、工艺无污染。 （a）高频放电离子镀（b）空心阴极放电离子镀(HCD) (c) 感应加工离子镀主要的离子镀技术示意图 3. 化学气相沉积(CVD)??? 利用气态化合物或化合物的混合物在基体材料表面(通常为热表面)上发生气相化学反应，从而在基材表面上形成镀膜的技术称为化学气相沉积。??? ① CVD主要的过程??? 产生挥发性化合物??? 把挥发性化合物运到沉积区??? 发生化学反应生成固态产物 ② 等离子体增强化学气相沉积(PCVD)??? 利用直流或射频放电等离子体内的高能电子激活反应气体分子使之离解或电离，从而获得在化学上非常活泼的激发分子、离子、原子或大量活性原子团等，并在基体表面上沉积镀膜。通常CVD法使气态物质处于高温，经化学反应制备涂层，而PCVD法借助于等离子体作用，使化学反应得以进行。 四、 激光表面改性 激光表面改性是将激光束照到工件的表面，用以去除或熔化材料以及改变材料表面性能的加工方法。1. 激光表面改性的特点??? (1) 高功率密度激光能量集中，与工件表面作用时间短，适于局部表面处理，对工件正体热影响小，因此热变形很小。??? (2) 工艺操作灵活简便，柔性大，改性层有足够厚度，适于工程要求。??? (3) 结合良好，改性层内部、改性层和基体间呈冶金结合，不易剥落 2. 激光表面处理技术（1）激光淬火（激光相变硬化） ??? 以高能量的激光束快速扫描工件，使材料表面极薄一层的局部小区域内快速吸收能量而使温度急剧上升(升温速度可达105℃/s～106℃/s)，此时工件基体仍处于冷态，激光离去后，由于热传导的作用，此局部区域内的热量迅速传递到工件其它部位，冷却速度可达105℃/s以上，使该局部区域在瞬间进行自冷淬火，因而使材料表面发生相变硬化。 激光表面处理 （2） 激光表面合金化??? 激光表面合金化是指在高能激光束作用下，将一种或多种合金元素与基材表面快速熔凝，使材料表层获得具有预定的高合金特性的技术。 （3）激光表面熔覆??? 激光表面熔覆是指利用激光加热基材表面以形成一个较浅的熔池，同时送入预定成份的合金粉末一起熔化后迅速凝固、或者是将预先涂敷在基材表面的涂层与基材一起熔化后迅速凝固，以得到一层新的熔覆层。 同步注粉式激光表面熔覆处理示意图 （4）激光上釉??? 激光束(功率密度高达104W/