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Ch05-半导体制造之化学特性
半導體製造技術
半導體製造技術
第5 章
第5 章
半導體製造之化學特性
半導體製造之化學特性
目的
研讀完本章內容後,你將可學習到:
1. 辨別與討論物質的4種狀態。
2. 敘述半導體製造的重要化學特性。
3.說明晶圓廠內,多種不同的化學製程如何分類
與應用。
4.解釋酸、鹼與溶劑如何應用於製造晶片。
5.區分本體氣體與特殊氣體,並說明如何於晶圓
廠運送與使用這些氣體。
2
物質的物理狀態
+V
-V
固態 液態 氣態 電漿
圖5.1 3
材料特性
• 溫度
•壓力與體積
• 凝結
• 蒸汽壓
•昇華與沈積
• 密度
• 表面張力
• 熱膨脹
• 應力
4
材料特性
• 溫度
•壓力與體積
• 凝結
• 蒸汽壓
•昇華與沈積
• 密度
• 表面張力
• 熱膨脹
• 應力
5
溫度尺度
華氏系統 攝氏系統 卡式系統
oF oC K
水的沸點 212 100 373
室溫 77 25 298
水的冰點 32 0 273
絕對零度 -459 -273 0
圖5.2 6
材料特性
• 溫度
•壓力與體積
• 凝結
• 蒸汽壓
•昇華與沈積
• 密度
• 表面張力
• 熱膨脹
• 應力
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