基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响!-物理学报.PDFVIP

下载本文档

0
0
约3.28万字
约 6页
2017-11-04 发布于天津
举报
版权申诉

基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响!-物理学报.PDF

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响!-物理学报

第卷第期年月物理学报 4’ $ M $ ，，， STA 64’ LT 6$ UFAV M （） !?%M2M24’ $ 2-M$?= :NO: HPQ0RN: 0RLRN: !M NK1) 6 HKV8 6 0T9 6 基片对交替溅射制备的!# 铁氧体薄膜结构和磁性的影响! ）））））） ! # 张弘刘曦王兰喜曹江伟刘小晰魏福林 !）（兰州大学电子材料研究所，兰州 $% ））（兰州大学磁性材料研究所，兰州 $% ）（年月日收到；年月日收到修改稿） ’ $ ’ ’ ! ’ 使用成分分别为()*+ , 和.)*+ , 的靶，使用射频溅射交替沉积制备了成分不同的() .) *+ , 薄膜，沉 - - ! / ! ! - 积薄膜所用基片分别为单晶硅（），氧化的单晶硅（），为衬底的单晶硅（）及单 01 ! 01, 2 01 ! .)*+ , .)*+ , 2 01 ! - - 晶氧化镁（），沉积态的薄膜为非晶结构，经真空退火后可以得到多晶铁氧体薄膜成分为 (3, ! 445 ().) 6 () 74 的薄膜呈现了较好的磁性：相对高的及低的以（）为基片薄膜的矫顽力最低，约为 .) *+ , # 6 (3, ! !-’ 74 - 8 9 对基片材料对薄膜磁性的影响作了分析认为铁氧体薄膜中应力导致的磁弹性各向异性对薄膜的矫顽力起着 :2; 6 6 主导作用，选用合适的基片可使薄膜中晶粒细化至纳米尺度，晶粒间增强的交换耦合作用可对薄膜中的磁