富Ti—TiNi薄膜的热循环效应.pdfVIP

维普资讯 ]998年 1O月 吉 林 太 学 自 然 科 学 学 报 第 4期 No 4 ACTA SCIENTTARUM NATURAI．ILlM UNIVERSITATISlII．INENSIS l998一l0 LFI-~ 富Ti—TiNi薄膜的热循环效应 霍艳 ，单凤兰 罗浩斌 王文字 王煜明 ’-- __ ‘___ -’。●_●_。一 (吉林大学材料科学系，长春 1；30023) 李 军 乙／ (吉林工享 葫南京■苌暮 130021) 量荤詈皇；R-T曲 状’丛当改变；但戢nA乍票T幸和龛保持不变’ 』坟-)L 上 勘要 。巍、两j 乏 ， ， 形状记忆台金的记忆效应来 自于热弹性马氏体相变和逆相变．在理想情况，马氏体转变是可逆 的．事实上，在重复使用中，由于相变过程产生的塑性变形不能完全复原，而作为塑性应变被残留下 来 【．因此相变过程不可避免地发生一些不可逆过程．在热循环中，不可逆过程的重复导致相变行为 如相变温度发生改变．许多学者对此进行了广泛研究，但大都集中在块材TiNi合金上 ．本文探讨 了TiNi薄膜材料在重复使用的相变行为． 1 实 验 采用直流磁控溅射法t以等原子比的TiNi台金作靶材，高纯Ar气作溅射气体，将TiNi膜沉积在 玻璃基片上．溅射工艺参数：真空度4×10_。Pa，功率560w，溅射速率 1．5nm／s，基片至靶的距离 85Film．溅射得到的膜厚约 16a／m．经电子能谱测定该膜成分为Ti一49．37％Ni(原子质量分数)． 将溅射膜从基片上剥离下来t在真空炉中进行热处理，使非晶膜晶化，并使第二相从基体中沉淀 出来．热处理真空度l×10一Pat升降温速率 3～5K／rain，773K保温lh．用x射线衍射(XRD)及透 射电子显微镜 (TEM)观察分析析出相，用电子衍射谱标定． TiNi薄膜的热循环(冷却一加热一冷却)是在77~393K范围进行的，加热和冷却速率小于5K／ min．通过测定电阻(R)一温度(Y’)曲线随热循环次数变化的规律，得到TiNi薄膜的热循环效应． 2 结果与讨论 溅射TiNi薄膜热处理后t经XRD和TEM分析得知已完全晶化，并有Ti：Ni和TiNi两种第二相 同时从基体中析出 J． 不同循环次数(Ⅳ一I，4，I1t18，25)的R一7’曲线的变化规律示于图1．由图1可以看到，在循环 次数范围内，TiNi薄膜在冷却和加热过程中，相变与逆相变皆由两个阶段完成．即R相变和马氏体相 变．图1还显示出随热循环次数的改变，R一7’曲线的形状也相应有所变化． 相变的特征温度随热循环次数的变化规律列于表 1．由表1明显看出，在冷却过程中，R相变温度 收祷 日期 199；一12—03． 第一作者 ：霍艳琦、女、27岁．硕士，现在长春大学基础科学部． — — 41