第三章 薄膜制备方法概述.pptxVIP

第三章 薄膜制备方法概述薄膜生长方法是获得薄膜的关键。薄膜材料的质量和性能不仅依赖于薄膜材料的化学组成，而且及薄膜材料的制备技术具有一定的关系。随着科学技术的发展和各学科之间的相互交叉, 相继出现了一些新的薄膜制备技术。这些薄膜制备方法的出现, 不仅使薄膜的质量在很大程度上得以改善, 而且为发展一些新型的薄膜材料提供了必要的制备技术。 第一节 沉积技术的发展1852 Grove观察到辉光放电引起的金属沉积；1857 Faraday 在惰性气体环境，蒸发沉积金属薄膜； 工业化光学元件（真空技术，加热元件:Pt,W）1877 溅射法用于镜子表面镀膜，但主要以蒸发法为主（高沉积率，高真空度，清洁环境，适用各种材料）1960s，PLD，CVD，MBE，磁控溅射……电阻加热 第二节 薄膜制备技术感应加热 真空蒸发电子束加热 激光加热 物理气相沉积 （PVD）直流溅射 溅射沉积射频溅射 磁控溅射 气相沉积 离子束溅射 分子束外延 （MBE）直流二极型离子镀离子镀 射频放电离子镀 等离子体离子镀 DC 热壁 HFCVD 化学气相沉积 （CVD） RF PECVD MW 冷壁 LECVD…… 电 镀 法 溶胶-凝胶法 ECR物理气相沉积(PVD)物理气相沉积:薄膜材料通过物理方法输运到基体表面的镀膜方法；通常是固体或熔融源；在气相或衬底表面没有化学反应；代表性技术：蒸发镀