柠檬酸对聚合物前驱体法制备WO3 薄膜光电性质的影响.pdfVIP

柠檬酸对聚合物前驱体法制备WO3 薄膜光电性质的影响.pdf

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第 43 卷第 5 期 中南大学学报(自然科学版)  Vol.43  No.5  2012 年 5 月  Journal of Central South University (Science and Technology)  May2012  柠檬酸对聚合物前驱体法制备 WO 薄膜光电性质的影响 3  李文章,李洁,王旋,黄晔,陈启元  (中南大学 化学化工学院,教育部资源化学重点实验室,湖南 长沙,410083)  摘要:以偏钨酸铵为钨源,柠檬酸为络合剂,聚乙二醇(PEG)为聚合物合成前驱体溶胶,并用浸渍提拉法在 FTO  导电玻璃上制备了 WO 薄膜,研究配位剂柠檬酸对聚合物前驱体法制备 WO 薄膜结构和光电性质的影响。采用  3  3  X 线衍射、拉曼光谱和场发射扫描电镜等手段研究薄膜的相组成及表面形貌,借助标准三电极体系进行了光电化 学测试,并进一步讨论了柠檬酸对 WO 薄膜光电性能影响机理。结果表明:CA和 W摩尔比为 0,0.5,1.0和 2.0  3  条件下薄膜表面颗粒平均尺寸分别为 60,80,110和 115 nm,500W氙灯照射 1.2 V(vs Ag/AgCl)偏压条件下,光 2  电流密度分别为 2.4,3.2,3.4 和 3.5 mA/cm ;柠檬酸的加入有效地改变了薄膜的表面形貌,较高的表面粗糙度和 较大的颗粒使得 WO 薄膜电极有更好的光电性能。 3  关键词:柠檬酸;三氧化钨;纳米薄膜;光电化学 中图分类号:O614;TB383  文献标志码:A  文章编号:1672−7207(2012)05−1638−07  Influence of citric acid on photoelectrochemical properties of  WO films obtained by polymeric precursor method  3  LI Wen­zhang, LI Jie, WANG Xuan, HUANGYe, CHEN Qi­yuan  (Key Laboratory of Resources Chemistry of Nonferrous Metals, Ministry of Education, School of Chemistry and  Chemical Engineering, Central South University, Changsha 410083, China)  Abstract: The influence of citric acid (CA) on microstructure and photoelectrochemical properties of WO films was 

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