试验五椭偏仪.PDF

试验五椭偏仪

實驗五 橢偏儀 一、實驗目的 利用橢圓偏振儀(橢偏儀)對介電質(塊材或薄膜)以波長範圍為350 nm~1700 nm 進行光學常數(n 、k )以及薄膜厚度(d )的量測。 二 、實驗儀器 (1)J.A. Woollam Co., Inc VASE and M44 的橢偏儀 (2 )光源(氙灯)及collimator (3 )機械精準角度旋轉平台及光纖導光模組 (4 )電腦及電腦介面 三 、實驗原理 橢偏儀(Ellipsometry)是一種利用橢圓偏振光來進行光學常數測量的一種技術。 由於同時考慮已知偏振態的入射光和由待測物反射後之反射光的振幅變化及相位變 化 (圖5-1 ),所以可以比其他量測技術得到更多的資訊來獲得更準確的數據,但由 於考慮相位變化,所以亦比其它量測技術更敏銳 。 目前較常用的橢偏儀有三種: null ellipsometry 、polarization modulation 以及rotating element ellisometer 。 本實驗所用為J.A. Woollam Co., Inc VASE and M44 的橢偏儀,即為rotating element ellipsometer 。其工作流程為: 光源=>起偏器=>待測物=>檢偏器=>偵測器 先由起偏器將光源發出的光轉為線偏振態 ,再經由待測物反射成為橢圓偏振 態 ,最後再由檢偏器及光偵測器測得其振幅變化及相位變化,進而得到兩組實驗數 exp exp 據:psi(Ψ )及delta(Δ ) exp -1 其中Ψ =tan (Rp/Rs) ,而Rp :反射光P 偏振態的振幅 Rs :反射光S 偏振態的振幅 exp Δ =Δ p-Δ s ,而Δ p :反射光P 偏振態的相位差 Δ s :反射光S 偏振態的相位差 但並不能直接從這兩組數據得到待測物的光學常數,而是必須先自行依照系統 mod 中已建立的模型(model) ,再由模型內的光學常數(n ,k)和膜厚(d)以理論計算Ψ 和Δ mod exp exp ,並配合同一公司所出之分析軟體(Wvase32)計算由實驗所得之(Ψ ,Δ )及由 mod mod 模型所得之(Ψ ,Δ )的MSE(Mean Square Error) ,如下: 2 2 N  mod exp   mod exp   1     MSE= 2N-M  i exp i   i exp i   i=1  ,i   ,i   其中N 代表(Ψ 、Δ )對的個數,M 為建立模型內變數的個數,σ 為實驗數據的標 準差。 在本實驗中以波長範圍350 nm~1700 nm ,每10 nm 做一次波長改變,並以三個 不同的入射角來作量測,如此可得198 組實驗點,以此為例,MSE 值約在 10 以內是 可接受的範圍,若MSE 值太大,則必須重新逼合。 四、實驗步驟 本實驗主要分成兩部份,第一階段將介紹橢圓儀的儀器架構與理論基礎,同學 們必須在課堂上先了解如何使用儀器,並由助教示範帶領同學進行儀器操作。第二 階段將進行樣品量測,在助教的協助下,讓同學以自己準備好的樣品進行量測。 (一) 橢偏儀操作與介紹 (1)在使用儀器前,先暸解橢偏儀的理論與儀器

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