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官能团的保护 官能团的保护 一、保护基的基本条件 二、羟基的保护 三、羰基的保护 四、氨基的保护 五、羧基的保护 六、活泼碳氢键和碳碳键的保护 总的说来，保护基应满足下列四点要求： 1. 它容易引入所要保护的分子（引入条件温和）; 2. 它与被保护基形成的结构在所要发生的反应中保持稳定; 3. 它可以在不损及分子其余部分的条件下除去（除去条件温和）; 4.保护基自身不含手性中心，保护时不产生新的手性中心。 羟基存在于许多有机化合物中，如碳水化合物、甾族化合物、核苷、大环内酯以及多酚等。羟基是敏感易变的官能团，容易发生氧化、烷化、酰化、卤化、消除以及分解Grignard试剂等反应，常需加以保护。 醇羟基和酚羟基的常用保护基是醚类、酯类和缩醛、缩酮等。它们已广泛应用于有机合成中。 (2)形成苄基醚（Bn）保护基 苄基醚的稳定性与甲基醚类似，对于多数酸和碱以及氧化剂都非常稳定，形成保护的反应条件也温和，操作简单，作为反应物的苄基溴或者苄基氯便宜易得。 （3）甲氧基甲醚 在强碱NaH或Pr2NEt等存在下，氯甲基甲醚与醇反应可得到MOM醚。采用P205、TsOH、Me3SiI或CH2＝CHCH2SiMe3等为催化剂，MoM醚对亲核试剂、有机金属试剂、氧化剂、氢化物还原剂等均稳定。MOM醚对酸的稳定性不如前述的甲醚、苄醚，通常去保护可用盐酸的甲醇溶液或THF-H2O溶液。 （6）三苯甲基醚 三苯甲基醚在糖、核苷和甘油酯化学中广泛的用来保护一级羟基，它的最大优点是在多羟基化合物中选择性的保护伯醇羟基。 制备时，以（单或二取代）三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4-二甲胺基吡啶（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）为催化剂。 三苯甲基（trityl group）是一较大的基团，脱去时用酸反应，或锂金属处理。 2、 形成酯类衍生物 酯类保护基是常用且有效的羟基保护基。主要有乙酸酯、苯甲酸酯、氯乙酸酯、新戊酸酯等。它们广泛应用于核苷、寡糖、肽、甾体和多元醇的合成中。酯类保护基常用醇和相比的酸酐或酰氯在吡啶或三乙胺存在下反应制得。 去保护通常采用碱水解或碱醇解法，但多种酯由于结构差异其水解敏感性也不同，水解能力次序大致为：ClCH2COOR＞MeCOOR＞PhCOOR＞tBuCOOR。 3、二醇和邻苯二酚的保护（缩醛或缩酮） 多羟基化合物中1，2-二醇和1，3-二醇以及邻苯二酚两个羟基的同时保护在有机合成中应用广泛。它们在酸催化下与醛或酮形成五元或六元环状缩醛、缩酮得以保护。用于二醇和邻苯二酚保护的常用醛、酮有：甲醛、乙醛、苯甲醛、丙酮、环戊酮、环己酮及其缩二甲醇等。此类保护基对于许多氧化反应、还原反应以及O-烃化或酰化反应都具有足够的稳定性。去除保护基通常采用酸催化水解，一般情况是1，3-二氧环己烷去保护速度大于1，3-二氧环戊烷。此外，在中性条件下通过氢解可以方便而有效地去除苄亚基缩醛保护基。 羰基的保护 醛、酮分子中的羰基是有机化合物中最易发生反应的活泼官能团之一，对许多试剂，诸如亲核试剂、碱性试剂、氧化剂、还原剂、有机金属试剂等都很敏感，常需在合成中加以保护。羰基的保护常见的有O,O-缩醛、缩酮和O,S-缩醛、缩酮，以及S,S-缩醛、缩酮。 1、O,O-缩醛、缩酮 质子酸或者Lewis酸都可以催化醛或酮与醇反应生成缩醛。例如： 形成1，3-二氧戊(己)环的活性次序如下：脂醛＞芳醛＞开链酮及环己酮＞环戊酮＞α,β-不饱和酮＞α-单(二)取代酮＞含吸电子基芳酮＞含给电子基芳酮。 O，O-缩醛、缩酮对下列试剂和反应通常是稳定的：钠-醇、LiAlH4、NaBH4、CrO3-Pyr.、AgO、OsO4、Br2、催化氢化、Birch还原、Wolff-Kishner还原、Oppenauer氧化、过酸氧化、酯化、皂化、脱HBr、Grignard反应、Reformatsky反应、碱催化亚甲基缩合等。 去缩醛、缩酮保护基通常用稀酸水溶液，非常简便有效，其难易次序类似于它们生成时的难易次序。也可用丙酮交换法。在酸催化下生成丙酮缩二醇，游离出被保护的醛酮。 2、S,S-缩醛、缩酮 与O，O-缩醛、缩酮类似，醛、酮与两分子硫醇或一分子乙二硫醇在酸催化下生成S,S-缩醛、缩酮。 与O,O-缩醛相比，S,S-缩醛更加稳定，形成S,S-缩醛保护也更加容易，也无需除水，而且时常在有水的条件下反应。S,S-缩醛在酸性和碱性条件下都是稳定的，保护基团可以满足更广泛的反应需求。但使用S,S-缩醛保护化合物有三个主要的缺点： ①大多数硫醇和二硫醇具有难闻的气味 ②水解反应常用到金属盐，也具有相当的毒性和环境问题 ③含硫化合物对Pd和Pt催化剂具有毒化作用，对于催化还原反应具有相当大的限制，这时候往