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利用微透鏡技術製備Shack Hartmann感測器 Fabrication of Shack Hartmann sensor based on microlens array 邱繼舜 國立清華大學微機電系統工程研究所,新竹,台灣 摘要 Shack-Hartmann感測器是廣泛應用在自適應光學技術(Adaptive Optics)、光學加工檢測及雷射光束品質檢測等方面的一種波前感測技術(wavefront sensing technique)。本文主要在簡介Shack-Hartmann感測器的原理及應用，同時對於感測器中最重要的微透鏡陣列，介紹其相關製備方法。一般常見的微透鏡製備方法包括Reflow photoresist method、Laser/E-beam direct writing 等方法。 關鍵字: Shack-Hartmann 一、簡介 自適應光學技術廣泛地應用在天文望遠鏡、視覺科技、雷射加工及雷射光品質檢測等方面。 簡單地說，自適應光學系統一般包括下列三個子系統[2]，如圖1所示。 波前感測器-用來量測入射光波前的像差(aberrations)，可以採用很多形式包括干涉儀(interferometry)、斜率或波前曲率的量測(Hartmann-Shack sensors)。 可變形反射鏡(deformable mirror)-用來校正光的扭曲(distortions)，一般包括有傳統的壓電式、雙膜式(bimorph)、液晶式及微機電式。 控制用電腦-用來將波前感測器的輸出轉換為送至可變形反射鏡的電壓訊號。 由於使用干涉儀來作為波前感測，通常具有構造複雜、體積龐大、造價昂貴等缺點。因此目前在波前感測器的使用上，已常常利用Shack-Hartmann感測器來達到感測波前的工能。 圖1 自適應光學系統示意圖 二、 感測器原理 ????????Shack-Hartmann波前感測器的工作原理如圖2所示，入射光束被微透鏡陣列(microlens array)分隔成許多子孔徑，每個子孔徑內的子透鏡均把入射到它上面的光聚焦到光感測器的靶面上形成光斑。如果入射波前為理想平面波前，則每個子透鏡所形成的光斑將準確落在各子透鏡的焦點上；如果入射波前有相位畸變，即光波面不是垂直於光軸的平面波，則每個子透鏡所形成的光斑將在其焦平面上偏離其焦點。被測波前相對參考波前的子孔徑光斑偏移量反映了子孔徑內入射波前暫態平均波前斜率，經電腦處理可得子孔徑內x、y兩個正交方向上的平均斜率，由各子孔徑平均斜率就可恢復出入射波前相位。 進一步將每個子孔徑中的光強度作為子孔徑的平均光強度，可以模擬出光束的近場光強度分佈，這樣，就可以獲得光場的相位和強度分佈，並對其進行詳細的分析，獲得如遠場分佈、光束品質等評價光束和光學系統的重要性能參數。如果探測器有一定的偵測頻率，還可以通過比較前後的波面變化等，達到瞭解光束隨時間變化等過程。 Shack-Hartmann感測器中最重要的一個關鍵元件是微透鏡陣列。它的作用是使得存在像象差的波面在其分割下，使得每一子波面均可以近似為平面波，從而可以測量出子波面的平均斜率，為模擬出像象差波面提供必要精度的資料。它的密度越高，即微透鏡數目越多，其將波面切割得越小，測量精度越高。由於傳統的加工方法不能做到均勻、高密度地排列各個微透鏡，極大地限制了其應用。隨著用光微影技術製造微透鏡陣列的突破，Shack-Hartmann感測器才在多種測量中獲得廣泛的應用，其中，對自適應光學技術、光學加工檢測及雷射光束品質檢測是其重要的應用領域。 圖2 Shack-Hartmann波前感測器的工作原理示意圖 ? 三、微透鏡陣列製程 ? 製備微透鏡陣列的方法有很多，包括雷射[3]/電子束直寫[4]、Photoresist reflow method、光熱技術(Photosensitive glass)[5]、離子擴散[6]及Ink-Jet fabrication[7]等方法，其中最常被使用的方法是由Popovic[8]在1988年所提出的Photoresist reflow method。 Photoresist reflow method基本上包括微影、顯影及光阻熔化等三個基本步驟。首先在基板表面塗佈一層光阻，然後以一個通常具有圓形圖案的光罩進行曝光，顯影後形成一系列分離的圓柱體。隨後在烤箱中或電熱板上加熱直到光阻熔化，表面張力使它們形成透鏡的形狀如圖3 所