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基于MET模型的VDMOSFET建模-电子器件
第38卷 第5期 电 子 器 件 Vol38 No.5
2015年10月 ChineseJournalofElectronDevices Oct. 2015
VDMOSModelingBasedonMETModel*
HANShan,LIWenjun ,LINXuan,LIUJun*
(MicroelectronicCADCenter,HangzhouDianziUniversity,Hangzhou310018,China)
Abstract:TheuniquestructureoftheVDMOS(VerticalDoubleDiffused)isstudied.Asuitabletopologicalstruc⁃
tureforthisdeviceisbuilt.Anaccuracylarge- signalequivalentcircuitmodelbasedonMETModelispresented,
whichissingle- pieceandcontinuouslydifferentiable.Staticanddynamicthermaldependenciesareconsidered.A
singlecontinuouslydifferentiabledraincurrentequationmodelsthesubthreshold,triode,highcurrentsaturation
anddraintosourcebreakdownregionsofoperation.Verilog-AlanguageisusedtoembedmodelintwoEDAtools,
theoneisCadencethe,theotherisHSPICE,theresultsofthemeasuredandsimulateddatamatchexactly.This
modelisappliedintheS-RinSeriesthethirdgenerationVDMOSproducts’modeling.Workingvoltagecovers 500
V,600V,650Vand 800V.SimulatedandmeasuredI- V,C- Vcharacteristicsshowgoodagreement.Thecompari⁃
sonsbetweensimulationandmeasurementsindicatethatthismodelcandescribetheDCcharacteristicsofVDMOS
accurately.
Keywords:VerticalDoublediffusedMOS(VDMOS);FreescaleMETmodel;parameterextraction;Verilog-A
EEACC:2570F doi:10.3969/j.issn.1005-9490.2015.05.005
基于MET模型的VDMOSFET建模
韩 山,李文钧 ,林 煊,刘 军*
(杭州电子科技大学微电子CAD研究所,杭州310018)
摘 要:研究了VDMOS的独特结构,建立了适合该器件的拓扑结构,电容、源漏二极管和源漏电流方程,提出了一个基于
MET模型的VDMOS模型。以Verilog-A语言嵌入到EDA设计工具Cadence和电路模拟程序HSPICE中,基于Verilog-A的仿真
结果可实现与测试数据的准确拟合。应用模型到士兰微电子S-Rin系列第三代高压VDMOS产品的建模中,工作电压涵盖500
V、600V、650V和800V,测量和仿真所得I-V,C-V特性曲线对比结果吻合很好,验证了模型具有良好的精度,可以表征VDMOS
交直流特性。
关键词:VDMOS;FreescaleMET模型;参数提取;Verilog-A
中图分类号:TN386 文献标识码:A 文章编号:1005-9490(2015)05-0986-07
VDMOS (Vertical Double- diffused Metal O
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