低表面活性剂浓度下有序介孔sio2的制备及性能-中国表面活性剂网.pdfVIP

2 0 0 2 年 9 月 东 北 大 学 学 报 ( 自 然 科 学 版 ) Sep. 2 0 0 2 第23 卷第9 期 Journal of Northeastern University (Natural Science) Vol 23 ,No. 9 文章编号 : (2002) 低表面活性剂浓度下有序 介孔 SiO2 的制备及性能 1 2 1 1 王金忠 , 赵 　岩 , 王明光 , 张彩碚 ( 1. 东北大学 理学院 , 辽宁 沈阳　110004 ; 2. 中国科学院 金属研究所, 辽宁 沈阳　110016) 摘 　　　要 : 在碱性条件下 ,采用低浓度阳离子表面活性剂 ,利用表面活性剂与硅源水解后形成 的聚集体相互作用 ,在溶液中形成分子自组装体 ,从而形成有序排列的介孔 SiO2 材料 水热和室温 · 碱性条件下 ,表面活性剂与硅源的粒子数比为 0 06 ∶1 由 HRTEM 分析 ,小角度 XRD 分析 , TG · DTA 分析及 FTIR 分析等研究表明 :在较低的表面活性剂浓度下 ,通过分子自组装体做模板剂 , 最终反应物经一定工艺处理 ,可形成六方结构介孔SiO2 水热条件下使分子的作用增强 ,提高介孔 · 骨架中硅原子的聚集度 , 由于铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大,并使有序介孔结构保 持完好 介孔 SiO2 孔道大小 3～4 nm ,六方结构排列 介孔结构保持完整的最佳煅烧温度为 500 ℃ · · · 关 　键 　词 : 介孔 SiO2 ;表面活性剂 ;模板剂 ;分子自组装 ;有序性 ;六方结构 ;介孔骨架 中图分类号: TQ 1272 　　　文献标识码 : A 当前 ,利用有机分子的自组装体与无机物间的 活性剂的脱除变得更为容易 ,而且也使其介孔结 界面作用合成具有特定结构的无机材料 ,并有效地 构保持完好 ,形成稳定的介孔 SiO2 材料 · 控制其结构形貌和性能 ,已成为材料化学研究的热 [1 ] 1 　实验部分 点 自 1992 年 ,Mobil 公司的研究人员 Kresge 和 · Beck[2 ]等首次利用高浓度的表面活性剂对 M41S 采用阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化 ( ) (MCM41 、MCM48 、MCM50) 系列硅基介孔分子 铵 CTMABr ,分析纯 ,北京化学试剂公司 ,硅源为 ( ) 筛合成以来 , 在科学界引起广泛重视 其中以 正硅酸乙酯 TEOS ,化学纯 ,沈阳市试剂三厂 ,氢 ·