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交流电方法用于单晶n一-CdTe光电极性能的研究-上海有机化学研究所.PDF
化学学报 AarA CHIMICA 8INICA l t110 18, 561-565
交流电方法用于单晶n一-CdTe 光电极性能的研究
范钦柏 邓萦旷
〈上海科学技术大学化学系,上海〉
本文应用循环伏安法研究了 n 型暗化铺单晶电极的光致腐蚀行为;并运用 PAR M368 电化学
阻抗系统测得了此电极在不同电位下的交流复阻抗图,估算了此电极的表面态密度及其它参数.实
验结果表明,n-CdTe/液体结具有Schottky 结的特征,此电极的 Fermi 能级可能有钉扎现象.
化合物半导体 CdTe 的能隙适中,是一种较为理想的光电转换材料EI,m- 文献[3] 是对n
CdTe 单晶光电极系统研究的一部分. 近年来,循环伏安法和交流阻抗法在半导体电极性能
的研究上已得到了应用民5J , PAR M368 交流阻抗测试系统是通过对高频信号锁相放大和低
频信号 Fourior 变换,经微机控制来精确测量复阻抗的,对软件适当改进,能用于循环伏安法
的研究.我们利用此设备对掺锢单晶 n--CdTe 光电极的性能作了进一步的研究.
实验
1.电池的组装:由 Cd 气压控制下的 Bridgman 法制成的低阻掺In 单晶 n-CdTe,由我
17 3
校材料科学系提供p 载流子浓度为 5 X 10 om- ,选择光亮致密而完整的单晶面p 经X 射线走
向为(100) 向(110) 偏离驴,背面用 In-Sn 合金作欧姆接触,制成的光电极表面经Wl0 号金
相砂纸磨光后,用 Si0
膏抛光成镜面.
2
(vs. SCE). 文中所述电位均
对电极由四根石墨碳棒串扎而戚,参比电极为饱和甘京电极
相对此电极而言.
电池中采用的多硫溶液由 NaOH, Na2S.9H20 及升华硫配得. (实验中所用溶液除注明
外均用分析纯试剂配制) .
r 0
2. 光电极的化学刻蚀溶液为 2gK C 2 7(CR) , 4皿LHNO 10mLH 0. 刻蚀时间为
及
2 a 2
2
80s,光源为 400W 卤鸽灯,光强为 50mW/om .
3. 循环伏安曲线和交流阻抗图在PAR M368 电化学阻抗测试系统上测得.
结果与讨论
循环伏安研究 在 1MNaOH, lMHCl 及 1MKCl等溶液中,测定了电极的循环伏安曲
线,实验在刻蚀前与刻蚀后,未光照与光照四种情况下进行.在不同溶液中p 光照下的阴、阳极
极化电流往往比不光照时的大,见图 1一-3,表明电极表面发生了光氧化还原反应.在 1MHCl
溶液(pH=O) 中,电极光照下有一峰,电位约为一O.lV,它与电极处理与否无关,是先腐蚀峰,
如圈 1.
1988 年 7 月 6 日收到U. 本文系中国科学院自然科学基金资助的课题.
化学学报 AOTA CHIMICA SINICA 1ω。
.582.
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