LIGA技术基础研究-光学精密工程.PDF

第8 卷　第 1 期　 光学　精密工程 Vol. 8, No. 1 2 0 0 0 年 2 月 O P T IC S AN D PR EC IS ION EN G IN EER IN G F eb. , 2000 文章编号　1004924X (2000) 0 1003804 L IGA 技术基础研究 梁静秋, 姚劲松 ( 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春　13002 1) 摘要: 阐述了 技术的组成及特点。对 工艺掩膜、 射线光刻、电铸及塑铸等进行了工艺原理 L IGA L IGA X 分析。用一次成型法制作了以聚酰亚胺为衬基、以A u 为吸收体的X 射线光刻掩膜。简单介绍了这种掩 膜的制作工艺过程, 并用这种掩膜在北京电子对撞机国家实验室进行了同步辐射 X 射线光刻, 得到了深 度为 500m , 深宽比达 8. 3 的PMM A 材料的微型电磁马达联轴器结构。给出掩膜和 X 射线光刻照片。 同时, 对 、 等金属材料的厚膜电铸进行了工艺研究。 A u N i 关　键　词: L IGA 技术; 光刻; 掩膜; 电铸 中图分类号: TN 305. 7　　文献标识码: A (4) 可以获得亚微米精度的微结构; ( ) ( 1　引　　言 5 便于批量生产 在基底片上可一次生产上 ) 千个部件 和大规模复制, 因而成本低, 价格便宜。 　　随着光、机、电元器件 日趋微型化和一体化, L IGA 技术 目前被认为是微机械加工的一个 需要寻求一种能实现这种微型化的方法。在常规 极为重要的发展方向, 有着 良好的发展前景。用 的微机械制作中, 主要依赖于 Si 微加工技术。但 L IGA 技术可制成为有 自由振动及转动或具有其 由于 Si 晶体的固有特性使其在微加工中受到很 他动作功能的微结构。因此, 它已经变成生产微机 大限制。为了实现任意材料的高深宽比微结构常 械、微流体和微光学元件最有前途的微制造技术。 选 用 L IGA 工 艺。L IGA 是 德 国 名 字 国际上十分重视L IGA 技术的研究。欧洲、 L itho g rap h ie, Ga lvano fo rm in g , A b fovm un g 缩 美国及亚洲等均开展了大量的研究工作, 特别是 写。 技术包括 射线深层光刻、电铸成型 欧洲对 技术投入了相当强的力量, 取得很 L IGA X L IGA 和塑铸成型等三个工艺过程。80 年代它起源于德 大进展并继续保持领先地位。不仅在基础研究方 国K ar lsruh e 原子核研究中心, 他们经过 6～ 7 年 面做了深入细致的研究, 而且在工业应用方面, 也 的努力, 应用同步辐射光源首先解决了深层光刻 已开始瞄准工业技术应用 目标, 研究微喷嘴、微电 的一系列关键技术, 然后又解决了这个尺度上的 机、微型光谱仪及光纤联接器等。其中, 直流电