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- 2017-11-04 发布于湖北
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软化学潞0备高度取向ZnO亚微米棒阵列的生长温度研究
俞有幸郝维昌’杜轶王春忠王天民
北京航空航天大学材料物理与化学研究中心北京100083
ZnO是一种直接带隙的半导体材料,室温下的禁带宽度为3.37eV,激予束缚能为60meV。由
于在短波长半导体发光二极管、激光器、紫外探测等光电性能及气敏【12】、压,Egf3】等方面的潜在用
途而受到广泛研究,特别是作为一种重要的化合物半导体光电材料141而引起国内外学者的广泛关
获得了紫外激光发射【5l。日本和我国香港的科学家也在1997年相继报道了ZnO薄膜的紫外受激
辐射【6,71。由于锌间隙原子及氧空位的共同作用,通常得到的ZnO都是n型半导体,长期以来,
国内外众多科学家都致力于P型ZnO的研究。2004年,日本的川崎教授率先研制了基于ZnO同
晶片上外延生长P型ZnO薄膜获得同质发光二极管的研究【引。
(PLD)【15J等先进技术。但由于高昂的成本以及高温、高压、高真空和反应精确控制等苛刻条件,
这些技术在应用与推广中受到一系列限制,因而寻求一种简单、低成本、适用于大规模生产的ZnO
晶体生长方法就具有特殊的意义。本文成功地用软化学的方法在较低温度下制备了氧化锌亚微米
棒有序阵列,研究了生长温度对ZnO棒阵列形貌的影响,讨论了生
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