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商用鈦合金在不同氧分壓下之高溫氧化行為研究
防蝕工程 第二十三卷第三期 第167 ~ 174 頁 2009 年9 月
Journal of Chinese Corrosion Engineering, Vol. 23, No. 3, pp. 167 ~ 174 (2009)
陳偉昇、汪瑞芳、邱宗聖、開物*
High-Temperature Oxidation Behavior of
Commercial Ti-Based Alloys at Various Oxygen
Pressures
W. S. Chen, R. F. Wang, T. S. Chiou, W. Kai*
Received 21 August 2008; received in revised form 4 February 2009; accepted 27 February 2009
本研究主要在探討不同氧分壓(0.01 ~ 1 atm)對兩種商用鈦合金Ti-64(含Ti-6Al-4V)及
SP-700(含Ti-4.5Al-3V-2Mo-2Fe)在 700 ~ 900 °C 間的氧化行為。整體而言,兩種鈦合金的
氧化動力學遵守抛物線律,且氧化速率皆隨溫度的上升而加快,但合金之氧化速率在氧分
壓增加時呈現不規則變化,顯示合金氧化後的氧化生成物呈現 N-型半導體的特徵。兩種合
金氧化後主要生成TiO ,並有少量Al O 生成。
2 2 3
關鍵詞:商用鈦合金;氧化行為;拋物線律;TiO ;Al O 。
2 2 3
ABSTRACT
The oxidation behavior of Ti-64 and SP-700 alloys was studied over the temperature range
of 700 ~ 900 °C in various oxygen-containing atmospheres (at Po2 = 0.01 ~ 1 atm). The
oxidation kinetics of the two alloys followed the parabolic rate law in all cases. The oxidation rates
of the alloys gradually increased with temperature but were independent of oxygen partial pressure,
indicating that the scaling of the two alloys possessed an n-type semiconductivity. The scales
formed on the alloys consisted mostly of TiO and minor amounts of Al O , regardless of the
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