用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度journalof.pdfVIP

第 26 卷 　第 2 期 半 　导 　体 　学 　报 Vol. 26 　No. 2 2005 年 2 月 　　 CHIN ESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS 　　Feb. ,2005 用透过率测试曲线确定半导体薄膜的 光学常数和厚度 沈伟东 　刘 　旭 　朱 　勇 　邹 　桐 　叶 　辉 　顾培夫 (浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 , 杭州　310027) 摘要 : 介绍了一种简单而准确地确定薄膜光学常数和厚度的方法. 借助于 ForouhiBloomer 物理模型 ,用改进的单 纯形法拟合分光光度计透过率测试曲线 ,获得半导体薄膜的光学常数和厚度. 对射频磁控溅射和直流反应溅射制 α 备的玻璃基板上的 Si 和 ZnO 薄膜进行了实验 ,拟合的理论曲线和实验曲线吻合得非常好. 计算得到的结果与文 献报道的结果和台阶仪的测量结果一致 ,误差小于 4 %. 该方法对无定形或多晶的半导体薄膜都适用 ,也可以用于 计算厚度较薄的薄膜. 关键词 : 薄膜材料 ; 光学常数 ; 透过率曲线 ; ForouhiBloomer 模型 ; 单纯形法 PACC : 7360F ; 7865 ; 6860 中图分类号: O4845 　　　文献标识码 : A 　　　文章编号 :(2005) 便 ,因此由单一透过率曲线确定薄膜的光学常数和 1 　引言 厚度 ,引起了人们极大的研究兴趣[3～7 ] . 本文借助 ForouchiBloomer 色散模型 , 利用改 当前许多先进的电子器件、光电器件和微光机 进的单纯形方法拟合薄膜的透过率光谱曲线 ,从而 电系统的制备过程中都涉及到沉积单层或者多层的 获得薄膜厚度、折射率和消光系数. 应用该法测试玻 半导体薄膜. 一般来说 ,薄膜的光学性质不同于相应 璃基板上不同条件溅射的无定形硅薄膜和反应溅射 的块状材料 ,而且随不同的工艺变化很大 ,然而薄膜 的 ZnO 薄膜 ,得到的结果同文献报道的数据和台阶 的光学常数和厚度有可能对整个器件的特性有很大 仪测量的结果吻合得非常好 ,误差小于 4 %. 该方法 的影响 ,因此简单而精确获得薄膜的这些信息是很 只需简单地测量透过率曲线 ,可以测试各种薄膜的 重要的. 现有的测定方法中 ,椭偏法是应用最广泛的 光学常数 ,特别适合于较薄的、在可见区具有很大吸 方法之一 , 它具有灵敏度高 ,适合于各种薄膜的优 收的半导体薄膜 ,这在光学薄膜、半导体工业和微光 点 ,但是它需要建立比较复杂的测试设备和计算模 机电系统等领域都具有实际的应用价值. 型 ,并且其精度受到诸多因素的影响 ;棱镜耦合法因 为要产生一定的模式要求薄膜的厚度较厚 ,并且能 2 　原理 测膜层的折射率受到耦合棱镜的限制 ; 常用的光度 法大多需要测量薄膜的反射率和透射率光谱曲 2 . 1 　物理模型 线[1 ] , 由于反射率测量比较困难, 因此其测量精度 远不如透射率测量高 ;包络线法[2 ] 需要薄膜很厚以 用来拟合透过率曲线的色散模型是 Forouhi 产生干涉振荡 ,而且要求薄膜是弱吸收的 ,这很难适 Bloomer 公式. 1986 年 , Forouhi 和 Bloomer 报道了 用于许多半导体薄膜 ,它们在可见区通常具有较大 无定形介