以射频磁控溅镀法制备氢感测用矽锗热电薄膜.pdfVIP

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行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告 以射頻磁控濺鍍法製備氫感測用矽鍺熱電薄膜(第 2年) 研究成果報告(完整版) 計 畫 類 別 : 個別型 計 畫 編 號 : NSC 98-2221-E-005-032-MY2 執 行 期 間 :99年08月01日至 100年07月31日 執 行 單 位 :國立中興大學材料科學與工程學系(所) 計 畫 主 持 人 :張立信 報 告 附 件 : 出席國際會議研究心得報告及發表論文 處 理 方 式 : 本計畫可公開查詢 中 華 民 國 100 年 09月 30 日 ■成果報告 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫 □期中進度報告 以射頻磁控濺鍍法製備氫感測用矽鍺熱電薄膜 計畫類別: ■個別型計畫 □整合型計畫 計畫編號: NSC 98 -2221 -E -005 -032 -MY2 執行期間: 98 年8月 1日至 100 年7月 31日 執行機構及系所:國立中興大學材料科學與工程學系所( ) 計畫主持人:張立信 共同主持人: 計畫參與人員: 成果報告類型依經費核定清單規定繳交( ) :□精簡報告 ■完整報告 本計畫除繳交成果報告外,另須繳交以下出國心得報告: □赴國外出差或研習心得報告 □赴大陸地區出差或研習心得報告 ■出席國際學術會議心得報告 □國際合作研究計畫國外研究報告 處理方式:除列管計畫及下列情形者外,得立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權,□一年□二年後可公開查詢 中 華 民 國 一 百 年 九 月 三 十 日 目錄 頁次 摘要及關鍵詞 II Abstract and Keywords III 前言 1 研究目的 1 文獻探討 1 研究方法 2 結果與討論 3 參考文獻 11

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