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液相法制备氮化碳薄膜的研究进展 学 位 申 请 人： 甘从营 指 导 教 师： 倪静 学 科 专 业： 应用物理学 学 位 类 别： 理学 液相法制备氮化碳薄膜的研究进展 摘 要 作为理论预测的新材料，氮化碳具有良好的物理、化学性质及广泛的应用景，其合成和应用研究引起了国内外研究人员的关注。目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法。本文主要就液相法制备制备氮化碳薄膜的研究进展进行总结，同时总结了氮化碳薄膜的光电性能和应用前景。 关键词:氮化碳薄膜、液相法、性能、应用前景 ABSTRACT As　a　predicted　new　material by　theoretical calcuatiaon ,Carbon nitride has excellent physical and chemical properties and extensive application prospects.The research on syntheses and application of carbon nitride has drawn more and more dtentions of scholars form differen counties . At present，the main methods of preparation Carbon nitride thin films are Chemical vapor deposition, ion beam sputtering deposition and laser ablation, laser plasma, ion plating, ion injection. This article mainly summarized the progress of preparation of carbon nitride thin film prepared by Liquid phase method ,meanwhile summarized the photoelectric performance and application prospects of carbon nitride thin films . KEY WORD: Carbon nitride thin films 、Liquid phase method 、performance、application prospect 目 录 前 言 1 第一章 碳氮化合物的理论研究…………………………………… 第二章 氮化碳薄膜膜的性能 §2.1硬度 §2.2氮化碳薄膜的摩擦磨损性能 §2.3电学性能 §2.4光学性质 第三章 氮化碳薄膜的应用前景 §3.1硬质耐热性在刀具、模具及各种零部件的应用 §3.2良好的固体润滑膜 §3.3氮化碳薄膜在生物中的应用 §3.4氮化碳薄膜在微电子学中的应用 §3.4.1在光电器件中的应用 §3.4.2在半导体器件和ULSI 中的应用 §3.4.3氮化碳薄膜是一种性能优异的非线性光学材料 §3.4.4氮化碳薄膜用作压电材料 第四章 参考文献 致 谢 附录 前 言 随着材料研究的深入与计算机技术的发展, 在原子、分子水平上对材料进行设计已成为目前新型材料研究的方向。自从Cohen 等通过计算预言了一种碳氮化合物可能具有可与金刚石相媲美的硬度和其他优异的力学、电学和光学性能以来, 人们竞相采用各种技术手段(如化学气相沉积、磁控溅射、离子束沉积、激光刻蚀等)尝试合成这种新材料。许多研究小组已经合成出具有独特性能的氮化碳, 其高硬度、低摩擦系数、良好的耐磨性、较好的光学性质等对氮化碳在广阔领域里的应用提供了坚实的基础。 氮化碳材料的性能研究是氮化碳材料研究的一个重要方面,其研究主要集中在薄膜性能的研究.不同小组的研究结果不尽相同,不同的实验技术所制备的氮化碳材料性能也可能不同.即使同一实验技术不同的实验参数得出的结果也不同。 目前合成晶态CN 仍是材料学家追求的目标，今后对CN 的研究将集中在以下几个方面： (1)氮化碳晶体合成技术的研究，工艺参数对薄膜性能的影响； (2)CN 薄膜中N含量的提高，C N含量的增加； (3)对氮化碳晶体的性能进行研究。为CN 薄膜实用化提供依据； (4)在以上工作的基础上