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聚变堆真空室驻留氢同位素的激光诱导击穿光谱分析进展-现代化工
第 卷第 期 现代化工
年 月
分分析析测测试试
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聚变堆真空室驻留氢同位素的
激光诱导击穿光谱分析进展
何康昊 杨 雷 李佩龙 文 明 周 帅 陈 闽
中国工程物理研究院 四川 绵阳
摘要聚变堆运行过程中粒子流和能量流轰击真空室表面形成的沉积层是造成氢同位素驻留的重要原因 由于真空室苛
刻的检测要求采用非接触式分析无需样品前处理的激光诱导击穿光谱 技术成为
真空室驻留氢同位素分析的有力手段 作为传统氢同位素分析手段的重要补充 可为包层结构及驻留氢同位素去除工艺
优化提供有力的技术支持
关键词真空室氢同位素激光诱导击穿光谱
中图分类号 文献标志码 文章编号
在聚变堆运行过程中 粒子流和能量流轰击真 析可产生 衰变的氚 无法分析非放射性的氕和氘
空室表面 通过物理溅射 解吸 蒸发 化学溅射 起
且分析结果易受样品表面粗糙度的影响 同时
弧表面起泡氢在晶界析出等机制产生杂质杂质 为获得轫致辐射及特征射线 须通过
粒子将沉积到面向等离子体部件 模拟电子碰撞或正则化等方法进行
表面形成沉积层造成氢同位素
反演计算 精度较低
驻留 氢同位素驻留将造成真空室材料强度下
简介
降塑性损失高温蠕变及燃料浪费 建立真空室驻
留氢同位素分析技术可为包层全结构优化及驻留 年 和提出激光诱导等离子体
氢同位素去除工艺探索提供必要的技术支持 技术 标志着 技术的诞生 年
为维持等离子体正常运行真空室内部不能安 间第 批 商业化仪器由美国 公
装采样设备也不能进行常规破坏式采样
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