磁控溅射方法制备垂直取向FePtBN颗粒膜.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 (( ( $$’ ( ， ， ， TUE 5(( 2U 5( )HV $$’ （ ） !$$$4#$0$$’0(( $( 0(’4$( =FP= .QR@SF= @S2SF= !$$’ F;I7 5 .;VO 5 @UD 5 磁控溅射方法制备垂直取向!#$% ’ 颗粒膜! ）） ） ） ）） ） ） ） ! ! ! ! # ! ! ! 李宝河 冯 春 杨 涛 翟中海 滕 蛟 于广华 朱逢吾 !）（北京科技大学材料物理系，北京 !$$$%# ） ）（北京工商大学数理部，北京 !$$$# ） # ）（沈阳建筑大学理学院，沈阳 !!$!’%） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） $$( !$ ( $$( !! 用磁控溅射在热单晶 （ ）基片上制备了［ ］多层膜，经真空热处理后，得到具有垂直取向 )*+ !$$ ,-./0 12 3! 4,-./0 $ 颗粒膜 射线衍射结果和磁性测量的结果表明，［ （ ） （ ）］和［ （ ） （ ）］多层 12 5 6 ,-./ 78 0 12 $ 9(78 !$ ,-./ !78 0 12 $ 9(78 $ 膜经 热处理 后，均具有较好的（ ）取向 ［ （ ） （ ）］垂直矫顽力达到 ，剩磁比达到 $$: !; $$! 5 ,-./ !78 0 12 $ 9(78 $ (=08 ! ，开关场分布 达到 ， 晶粒平均尺寸约 — ，适合用于将来超高密度的垂直磁记录介质 $ 9 ! $ 9? ,-./ !( $78 5 关键词：磁控溅射，垂直磁记录， 纳米颗粒膜 3! 4,-./0 12 $ ： ， #()) (($@ ($,