外加磁场对碰撞射频鞘层离子能量分布的影响.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ) = %$$= = ， ， ， U20 () T2 (= R9V89-?9@ %$$= （ ） $$$,’%=$M%$$=M) $= M#’=%,$) DJND OPQRSJD RSTSJD !%$$= JL/; ( OLEW ( R2: ( 外加磁场对碰撞射频鞘层离子能量分布的影响! ! 邹 秀 邹滨雁 刘惠平 （大连交通大学理学院，大连 #$%） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %$$ %% %$$ % %’ 采用双流体模型，数值研究入射到射频鞘层偏压电极上的离子能量分布 研究结果表明：磁场在改变离子运动 ( 状态的同时，调控着基板上的离子能量分布，使之在垂直基板方向和平行基板方向间转移( 关键词：等离子体，射频，鞘层，磁场 ： ， ， !## )%#) )%*$ )%%) 和电荷交换碰撞效应，利用I2;89,J.@02 模拟方法研 引 言 究了入射到电极上的离子的能量分布和角度分布( ［］ = %$$) 年KL.;B 等 建立一个简单的碰撞射频鞘层流 目前，射频气体放电在微电子工业中得到了非 体模型并讨论了碰撞对离子密度分布的影响( 常广泛的应用，如等离子体刻蚀和薄膜沉积 在实际 ( 至今对无外加磁场作用的射频鞘层的研究工作 的等离子体工艺中，通常在基板（偏压电极）上施加 已经取得了丰硕成果，而对外加磁场作用下的射频 射频偏压，从而在基板附近形成射频等离子体鞘层( 鞘层的研究工作开展得还很不充分 磁场的引入会 ( 当离子穿越射频鞘层时，将受到射频鞘层电场的加 使问题更加复杂，但是很多情况下磁场的影响又是 ［ ］ 速，获得一定的能量 入射到基板表面的离子能量和 $ ( 很显著的 年 采用流体近似和迁移 扩散