聚苯胺薄膜厚度的表征及原位生长-南京工业大学学报自然科学版.PDF

第３２卷第５期 南　京　工　业　大　学　学　报　（自然 科 学 版） Ｖｏｌ．３２Ｎｏ．５ ２０１０年９月 ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＮＡＮＪＩＮＧＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹＯＦＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ（ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅＥｄｉｔｉｏｎ） Ｓｅｐ．２０１０ ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１６７１－７６２７．２０１０．０５．００２ 聚苯胺薄膜厚度的表征及原位生长 １，２ １ １ ２ 李冀蜀 ，顾大伟 ，沈临江 ，杨南如 （１南京工业大学理学院，江苏 南京 ２１０００９；２南京工业大学材料科学与工程学院，江苏 南京 ２１０００９） 摘　要：以石英基片为衬底，分别在常压０１ＭＰａ和５００ＭＰａ高压条件下采用原位聚合法制备聚苯胺（ＰＡＮＩ）薄膜． 通过对ＰＡＮＩ薄膜的厚度进行原子力显微镜的直接测量和光谱的间接表征，建立了薄膜厚度ｄ（ｎｍ）与薄膜ＵＶ