外源H2S对低温下日光温室黄瓜光合作用及抗氧化系统的影响.pdfVIP

园艺学报，2016 ，43 (3) ：462 –472. Acta Horticulturae Sinica 462 doi ：10.16420/j.issn.0513-353x.2015-0808；http ：//www. ahs. ac. cn 外源 H S 对低温下日光温室黄瓜光合作用及抗 2 氧化系统的影响 周超凡，吴帼秀，李 婷，毕焕改，李清明，艾希珍* （山东农业大学园艺科学与工程学院，作物生物学国家重点实验室，农业部黄淮地区园艺作物生物学与种质创制重 点开放实验室，山东泰安 271018 ） 摘 要：为了探讨外源硫化氢（H S ）对黄瓜耐冷性的调控机理，以‘津优3 号’黄瓜为试材，叶面 2 喷施 H S 供体硫氢化钠（NaHS ），以清水处理为对照，研究 H S 对温度变化的响应，以及对黄瓜叶片光 2 2 合作用和抗氧化系统的影响。结果表明：随着日光温室内气温降低和低温持续时间的延长，黄瓜叶片的 H S 含量及 D –/L –半胱氨酸脱巯基酶（CDes ）活性先升高，后降低；光合速率（P ）、气孔导度（G ）、 2 n s 蒸腾速率（T ）、核酮糖–1,5 –二磷酸羧化酶（RuBPCase ）活性，以及暗下光系统Ⅱ最大光化学效率（F /F ）、 r v m 光下实际光化学效率（Φ ）、电子传递效率（ETR ）和光化学猝灭（q ）逐渐降低，胞间CO 浓度（C ）、 PSII P 2 i 初始荧光 （Fo ）和非光化学猝灭 （NPQ ）趋于升高。低温胁迫可使 MDA 含量增加，超氧化物歧化酶 （SOD ）、 过氧化物酶（POD ）、过氧化氢酶（CAT ）、抗坏血酸过氧化物酶（APX ）和谷胱甘肽还原酶（GR ）活性 先升高后降低。与对照相比，NaHS 处理叶片的 H S 含量和 CDes 活性及 P 、G 、T 、RuBPCase 活性、 2 n s r F /F 、Φ 、ETR 和 q 明显升高，C 、F 和 NPQ 显著降低。低温下 NaHS 处理的 MDA 含量显著低于 v m PSII P i o 对照，而 SOD、POD 、CAT、APX 和 GR 活性明显高于对照。NaHS 处理的黄瓜产量比对照增加 15.3%。 可见 CDes 催化合成 H S 受低温胁迫诱导，外源 H S 可增强活性氧清除能力，减轻低温对黄瓜叶片光合机