化学气相沉积钻石薄膜经氢气与氧气电浆处理之磨耗与-先进工程学刊.PDFVIP

先進工程學刊第三卷 第三期 187 Journal of Advanced Engineering Vol. 3, No. 3, pp. 187-192 / July 2008 化學氣相沉積鑽石薄膜經氫氣與氧氣電漿處理之 磨耗與腐蝕性質 Wear and Corrosion Properties of HFCVD Diamond Films after Hydrogen and Oxygen Plasma Treatment * 李正國 陳慶鴻 吳東益 * Cheng-Kuo Lee , Ching-Hung Chen, Dung-Yi Wu 摘要 本論文研究以熱燈絲化學氣相沈積法，在矽基板上合成鑽石薄膜，並於製程 中添加氫氣與氧氣以探討這兩種氣體的添加對鑽石薄膜磨耗與腐蝕性質之影響效 應。首先利用拉曼光譜儀、X 光繞射、奈米壓痕分析儀、原子力顯微鏡等薄膜結 構分析方法，對各種鑽石薄膜之原子鍵結、結構、與表面形態做一分析與討論， 將鑽石鍍膜試片與AISI 4140 鋼對磨環，以塊對環 (block-on-ring) 摩擦方式，施 以不同荷重測試鍍膜之耐磨耗性質；以及在1M H SO + 1M NaCl溶液中，量測腐 2 4 蝕電位，並利用電化學線性極化方法分析鍍膜對於腐蝕極化阻抗與腐蝕電流之優 劣。研究結果發現，鑽石薄膜在H 3 添加的情況下，代表鑽石相的 sp 會較為明顯， 2 使硬度增加及鍍膜表面組織致密性較好，對於耐磨耗與抗腐蝕性質有提昇的作 用，而 O 2 3 的添加使 sp 增加、sp降低，相對於抗腐蝕與耐磨耗性質都有降低的趨 2 勢。 關鍵詞 ：熱燈絲化學氣相沉積法，拉曼光譜儀，X 光繞射，奈米壓痕分析儀 Abstract The diamond film was deposited on silicon substrate by using a hot filament chemical vapor deposition technique (HFCVD), the H and O plasma were also added