等离子体电解氧化过程中单个稳态微放电的热效应研究-物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 2( S #’ S ， ， ， X. *2( W *S 0:6:8Y:= #’ （ ） !E%#S)#’)2( S )2%$!E( -PT- FUR0VP- 0VWVP- !#’ PJ1B * FJ?7 * 0; * !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 等离子体电解氧化过程中单个稳态微放电的热效应研究 ） ） ） ） ! ! # # 王立世 潘春旭 蔡启舟 魏伯康 !）（武汉大学物理科学与技术学院，武汉 $%’# ） # ）（华中科技大学材料科学与工程学院，武汉 $%’$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #( !! # #( !# # 详细回顾了有关等离子体电解氧化过程中单个稳态微放电热效应研究的现状；提出了处理过程中电解液 基 ) 体界面上离散气泡类型和数量上的变化造成了微放电外观的演化 基于微放电的圆柱形通道模型，并借鉴点热源 * 的传热公式，估算了发生在通道内部及放电衰退过程中毗邻膜层的温度场，为膜层中存在的物相种类（ ， +,-. / # $ +, 01/ 等）及晶态类型提供了初步的理论分析* # $ 关键词：等离子体电解氧化，镁合金，微放电，热效应 ： ， ， !## 2#’23 4!(5 2#2 的缺陷，诸如孔隙、微裂纹、封闭空腔及膜层不同区 !L 引 言 域成分、晶态的差别等，这对于FG/ 膜层的功能性 将产生不利的影响（比如耐蚀性、电陶瓷膜的压电 !） 等离 子 体 电解 氧 化 （ 6.9789 :.:;=.?1; 性、绝缘膜的介电性等），如何避免或者尽量减少这 ， ）是在水基电解液中对能够形成阻挡 些缺陷的存在？ 工业应用中面临的第四个重大 @1A91B