TC4基体等离子喷涂WC-Co涂层的工艺研究.pdfVIP

第 29卷 第 1期 沈 阳 理 工 大 学 学 报 V01．29 No．1 2010年2月 JOURNALOFSHENYANGLIGONGUNIVERSITY Feb．20l0 文章编号：1003—1251(2010)Ol一0O64—04 TC4基体等离子喷涂WC-Co涂层的工艺研究 张学萍 ，张佳平 (1．沈阳理工大学 材料科学与工程学院，辽宁 沈阳 110159； 2．沈阳黎明发动机 (集团)有限公司 技术中心，辽宁 沈阳110043) 摘 要：采用不同的工艺参数对TC4合金试样进行等离子喷涂WC．Co涂层，对所喷涂 的试样进行金相分析和孔隙率测定试验，根据涂层金相照片的氧化物、致密均匀程度以 及涂层的孔隙率数值等确定合适的工艺参数．在对此参数下所喷涂的涂层进行结合强 度、硬度等性能检验，测得结合强度最低值为38．45MPa，硬度最小值为83，均超过实际