晶面暴露的BiMoO纳米片对土霉素和-华中农业大学学报.PDF

晶面暴露的BiMoO纳米片对土霉素和-华中农业大学学报.PDF

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
晶面暴露的BiMoO纳米片对土霉素和-华中农业大学学报

第 卷 第 期 华 中 农 业 大 学 学 报 33 5 Vol.33 No.5 年 月 , 2014 9 JournalofHuazhon A riculturalUniversit Se.201467~72 g g y p (010)晶面暴露的Bi MoO 纳米片对 2 6 土霉素和四环素的可见光催化降解 1 1 1 2 1 康勤书 汪圣尧 沈 敏 戴 珂 陈 浩 , ; , 1.华中农业大学理学院 武汉 430070 2.华中农业大学资源与环境学院 武汉 430070 ( ) , 、 摘要 以 晶面暴露的 纳米片作为光催化剂 通过改变溶液 值 催化剂用量及目标降解物 010 BiMoO pH 2 6 的初始浓度等考察 纳米片对土霉素( , )和四环素( , )在可见光下降 BiMoO OxtetracclineOTC TetracclineTC 2 6 y y y ; 。 : 解效果的影响 通过加入不同的自由基清除剂来考察光催化过程的机理 结果表明 光催化剂对 和 的 OTC TC , 。 降解效果会因其在溶液中的存在形式不同而改变 随着溶液 值的升高 与 会发生逐级电离 在最佳 pH OTC TC ( ) , , ( 值 条件下 可见光辐照 后 与 分别降解 和 催化剂质量浓度为 pH pH=11 1h OTC TC 42.1% 58.8% 1.4 /)。 , , 和 的光催化降解动力学研究表明 其降解过程符合伪一级动力学方程 其降解动力学常数分别 gL OTC TC -1 -1 。 , ,

文档评论(0)

xiaozu + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档