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晶面暴露的BiMoO纳米片对土霉素和-华中农业大学学报
第 卷 第 期 华 中 农 业 大 学 学 报
33 5 Vol.33 No.5
年 月 ,
2014 9 JournalofHuazhon A riculturalUniversit Se.201467~72
g g y p
(010)晶面暴露的Bi MoO 纳米片对
2 6
土霉素和四环素的可见光催化降解
1 1 1 2 1
康勤书 汪圣尧 沈 敏 戴 珂 陈 浩
, ; ,
1.华中农业大学理学院 武汉 430070 2.华中农业大学资源与环境学院 武汉 430070
( ) , 、
摘要 以 晶面暴露的 纳米片作为光催化剂 通过改变溶液 值 催化剂用量及目标降解物
010 BiMoO pH
2 6
的初始浓度等考察 纳米片对土霉素( , )和四环素( , )在可见光下降
BiMoO OxtetracclineOTC TetracclineTC
2 6 y y y
; 。 :
解效果的影响 通过加入不同的自由基清除剂来考察光催化过程的机理 结果表明 光催化剂对 和 的
OTC TC
, 。
降解效果会因其在溶液中的存在形式不同而改变 随着溶液 值的升高 与 会发生逐级电离 在最佳
pH OTC TC
( ) , , (
值 条件下 可见光辐照 后 与 分别降解 和 催化剂质量浓度为
pH pH=11 1h OTC TC 42.1% 58.8% 1.4
/)。 , ,
和 的光催化降解动力学研究表明 其降解过程符合伪一级动力学方程 其降解动力学常数分别
gL OTC TC
-1 -1
。 , ,
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