纳米压印多孔硅模板的研究-物理学报.PDFVIP

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 63, No. 1 (2014) 018102 纳米压印多孔硅模板的研究 张铮 徐智谋 孙堂友 徐海峰 陈存华 彭静 1)(华中科技大学光学与电子信息学院, 武汉 430074) 2)(中师范大学化学学院, 武汉 430079) 3)(武汉科技大学理学院, 武汉 430081) ( 2013 年6 月27 日收到; 2013 年9 月22 日收到修改稿) 纳米压印模板通常采用极紫外光刻、聚焦离子束光刻和电子束光刻等传统光刻技术制备, 成本较高. 寻找 一种简单、低成本的纳米压印模板制备方法以提升纳米压印光刻技术的应用成为研究的重点与难点. 本文以 多孔氧化铝为母模板, 采用纳米压印光刻技术对纳米多孔硅模板的制备进行了研究. 在硅