约束刻蚀剂层技术（CELT）用于 Ni、Cu 和Si 表面.PDFVIP

学校编码：10384 分类号： 密级： 学号：200025038 UDC ： 厦门大学理学硕士学位论文 库 约束刻蚀剂层技术（CELT ）用于Ni 、Cu 和Si 表面 三维微图形复制加工研究要 摘 刘柱方 文 指 导 教 师：田昭武 教授 论 申 请 学 位：硕士 士 专 业 名 称：物理化学 论文提交日期：2003.7 硕 论文答辩日期：2003.7 博 学位授予单位：厦门大学 学 答辩委员会主席：辜志俊 教授 大 评阅人：辜志俊 教授 门 姚士冰 教授 厦 厦门大学化学系 2003年7月 Study on 3-Dimensional Microstructure Replication on Ni, Cu and Si Surface by Confined Etchant Layer Technique 库 要 A Thesis Submitted for Degree of Master of Science 摘 文 论 By Zhu-fang Liu 士 硕 Directed by Professor Zhao-Wu Tian 博 学 大 门 厦 July, 2003 Department of Chemistry, Xiamen University 目 录 中文摘要……………………………………………………………………... Ⅰ 英文摘要………………………………………………………………………V