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基于红外热像分析的绝缘子污闪过程中干区形成过程分析.pdf

第40卷第1期:138.146 高电压技术 2014年1月31日 HighVoltageEngineering January31,2014 DOI:10.13336/j.1003-6520.hve.2014.01.020 基于红外热像分析的绝缘子污闪过程中干区形成 过程分析 Mark,关志成,张若兵 梁飞,MacAlpine (清华大学深圳研究生院,深圳518055) 摘要:形成干区是污闪发生的前提条件之一,为此重点从热的角度分析了干区的形成过程。用两端带有铝电极 的矩形玻璃板模拟实际绝缘子,用红外热像仪拍摄了雾室中绝缘板表面干区形成中的温度分布变化,同时用泄漏 电流测量系统实时记录了泄漏电流的变化。最后,将温度分布变化和泄漏电流趋势联系在一起,细致地分析了干 区的形成过程,并得到了干区形成过程中的一些规律:加压之初,污层表面温度均匀稳定升高;干区形成之前污 层表面会出现持续的高温区,局部干区首先形成在高温区;局部干区向完整干区的发展在温度分布上表现为高温 在污层的贯穿;完整干区形成后,污层总体温度下降,但是干区呈现扩大趋势;干区达到稳定后,湿区温度降低 为环境温度,干区依IEt维持高温且温度由干区中心向两侧递减。因此,干区的形成不仅仅是一个电的过程,同时 也是一个热的过程。 关键词:污闪;干区;温度;红外热像仪;泄漏电流;平板模型;人工污秽试验 Formationof intheProcessofPollutionFlashover Dry-band BasedonInfraredThermal ImageAnalysis LIANG Mark,GUAN Fei,MacAlpine Zhicheng,ZHANGRuobing Schoolat 51 (Graduate 8055,China) Shenzhen,TsinghuaUniversity,Shenzhen Abstract:Theformation isoneofthe flashover.Wethisformationfrom ofdry.bands preconditionsofpollution analyzed ofheat.A sheetof withelectrodesonitstwosideswasusedtosimulate an perspective rectangularglass insulator,and infrared cameraWasusedtorecordthe oftheinsulationsurface the of fo卜 temperaturechange duringprocessdry.band mation.Inthemeantime.currentWasalso distributionandthe currentvariation recorded.Finally,thetemperature leakage werecombinedtoclari向me offormationof conclusionsaredraw

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