应用表面扫描仪研究硅抛光片表面质量研究.pdfVIP

了N36.I之D。{- 应用表面扫描仪研究硅抛光片表面质量 a片 推}141 卢立延 孙 (it京有色金属研究总倪 1000$8) 1 引 育 载平台可机械步进人激光扫描区，利用激光 随粉集成电路向大规模和超大规模方向 束对抛光片表面扫描。如果抛光片表面完好 发展，徽电子技术从徽米技术进人亚徽米技 无缺陷，光束不会发生散射且沿同一角度反 术，由于元件结构可以小至亚徽米尺度，对 射，即不会有能A损失。当光束遇到板粒或 作为衬底的半导体硅撼光片表面质f提出了 缺陷时，将发生散射和反射效应，使人射光 更高要求。表面的软粒、徽缺陷或表面机械 的强度减弱。将减弱的散射和反射光强分别 演伤的存在都会对器件的制造工艺和器件产 收集到两个光电倍增曹 (PMT)中，如图1， 品质妞造成极为有容的垂响。画此如何更好 经过一系列信号处理后，即可在计算机屏幕 地检侧硅片表面获粒利表面缺陷对监控她光 上反映该缺陷的大小形状和在硅片上的位 工艺过程和保证产品质f都将起到非常重要 作用。 传统的表面检侧方法仍然是以目检为 主，辅助以显徽分析观察。目检方法有其自 身的优越性，是其他检侧方法不能比拟的。 例如可直接知断各种映玲类型，分析形成缺 及时反俊信息等。但目检也有很 陷的厚甲， 大的局限性 ，板翻者的技水、经雏、工作衰 图1漱光扫描仪工作示意图 劳状态爷诸多因幸4会释响对表面质址的评 价川。并且人眼所能祖雄到的孩粒在徽米 收集散射光信号的PMT称为暗通道 级，示加摘足器件对材41Lm烦,vI的要求。运用 PIT(DCPMT)，它反映了表面顺攀状况及 显象镜分析显然扩大了人的视野，但检侧费 细小的划痕等缺陷，而收集反射俏号的PMT 时，不此作为批f生产的枪侧工具。 称为弃通道PMT;(LCPIYIT)a，它将诸如桔皮、 本文所要讨论的是应用表面检洲设备检 波纹筹缺陷反映在图像及f值化的Li咖 汤硅片表P顺粒和各种块陷并自动进行分 Channel数值上.(简称L值))[z-sl。 类，对抛光和清洗后硅片表面状态作一初步 众所周知，在通常的目检标准规程中. 分析和研究。 使用的光源有两种，即以一窄束强光观察充 2 实 验 当光散射点的缺陷和大面积没射光观察较大 本实验采用激光表面扫描仪检侧抛光片 的缺陷，如桔皮、条纹、环状突起、凹坑、 表面。 重划伤等。结合亮通道检测反映的正是后一 硅片被一机械手放人承载平台上，此承 种缺陷。但为了检测可靠和准确，播要操作 112 . S C盆 ‘书 者在使用仪器前须顶先结合自己的经验，借 0口州T SIZE .17 助显微镜等手段，给出设置及判定标准。经 .盆.. .翻内. 过反复的实验，寻找到合适设置及判定标准 .3..