循环氩离子轰击对等离子体增强休学气相沉积PECVDTiN膜耐腐蚀性能的影响研究.pdfVIP

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2018-01-12 发布于湖南
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循环氩离子轰击对等离子体增强休学气相沉积PECVDTiN膜耐腐蚀性能的影响研究.pdf

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， . . J 、 . 门， 1 ，循环氨离子轰击对等离子体增强化学气相沉积 J l 翻 . 月 (PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响 . 、 | 谢飞 (江苏石油化工学院机械工程系，江苏常州，213016) 何家文 (西安交通大学材料科学与工程学院，陕西西安，710049) 摘要:本研究设计了循环氮离子轰击一PECVDTiN工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备，研究循环氢离子轰击对PECVDTiN膜耐腐蚀性能的影响及作用机理。结果表明:循环氢离子轰击强化7沉积中的反应.提高了TiN膜的致密性.细化了TiN晶粒，减少了膜内缺陷，降低了膜层中的残余飘含量，从而提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能。关键词:PECVD TiN膜耐蚀性 Ar轰击 1前言 TiN硬质膜除了提高工程材料的耐磨性外，其优良的化学稳定性也提高了机械零部件的耐蚀性川。然而，气相沉积TiN膜并非总能表现出良好的耐蚀性能，这与一些气相沉积技术制得的TiN膜中存在的许多显微缺陷 (如微孔、裂纹等)有密切关系。PECVDTiN膜和其它技术沉积的TiN膜相比，除存在显微缺陷外，还存在一定量的残余氯，对耐蚀性有很大影响IZI.PECVDTiN膜中存在的这些问题与 PECVDTiN的沉膜特点有关.PECVD利用低温等离子体宏观温度低、而电子温度很高(104K以上尸的特点，使TiN膜沉积在比化学气相沉积 (CVD)低得多的温度下