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- 2018-01-05 发布于湖北
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培训纳米压印
* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 次波長光學元件(SOE):繞射光柵 Source: Lightwave (Oct 2002)52-58 * Fresnel Zone Plate:同心環型光柵 Source: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 673-675 120nm-PMMA Cr/Au 光阻:120 nm PMMA 熱壓:175?C、645 psi 光柵週期:100 nm、150 nm 光柵間距:20 nm * 微環光學共振器 Source: J. Vac. Sci. Technol. B 20 (2002) 2862-2866 * 有機半導體材料:導電圖案 Source: J. Vac. Sci. Technol. B19 (2001) 487-489 材料:1?m-PMMA80PANI20 熱壓:150 bar、140?C、10min 深度:500nm 線寬/間距:5?m 1?m-PMMA80PANI20 熱壓前 熱壓後 RIE後 RIE前 移除殘存厚度光阻 未蝕刻前 差異為2倍 * 有機薄膜電晶體 (OTFT) Source:
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