系统阴床再生后二氧化硅冲洗不合格的原因分析及处理.doc

除盐系统阴床再生后二氧化硅冲洗不合格的原因分析及处理 192应用方法论科201赫乱1年第21期 除盐系统阴床再生后二氧化硅冲洗不合格的原因分析及处理 王玉秀 (郑州市郑东新区热电有限公司,河南郑州451464) 摘要对除盐系统阴床再生后二氧化硅冲洗不合格的原因进行了分析,通过试验研究,找出了处理措施,使系统得以恢复正常运行. 关键词除盐系统;阴床;再生;二氧化硅 中图分类号TP文献标识码A文章编号1673—9671一(2011)111-0192—01 1概述 某厂2×200Mw供热机组设计水源为地表水,与其配套的补给水系 统由生水预处理系统,离子交换系统组成.系统设计出力为120m3]h,出 水水质SiO.≤20g/L,DD~lt;0.2s/em. 系统从2005年10月开始投运,出力和出水水质均能达设计要求.但 自2010年下半年开始,离子交换一级除盐部分陆续出现运行周期短,出 水水质不合格问题,使补给水系统出力严重不足,在冬季供热期间无法 满足机组补水,直接影响该厂的安全经济运行. 2原因分析 针对上述问题,我们对原始数据进行了分析,从原水水质变化,除 盐设备的状况,运行工艺,树脂性能等多方面人手,对除盐系统运行不 正常的主要原因进行了研究分析. 2.1原水水质恶化及其影响 原水水质恶化是除盐系统出力不足的主要原因.从表1数据分析可 以看出,由于原水水质不断恶化,含盐量已由设计时的294mg/LL升到 现在的500mg/L,活性硅由l1.0m升至20.0mg/L,基本升高1倍,这对 阴床的运行造成很大的压力.造成一级除盐系统阴,阳床运行周期缩 短,设备出力降低. 表1水质主要指标变化 2.2阴床失效判断不准 由于硅属于较弱的弱酸,漏硅后出水导电度仍然很小(阴床出水导 电度1.0[i.ts/cm1.~下),只监测电导,表面上看水质仍很好,却造成了阴 床一直在漏硅状态下运行. 2.3混床阴树脂的硅深度失效 由于阴床一直在漏硅状态下运行,并持续3个月左右,可能造成了 混床阴树脂的硅深度失效.而由于阳床一直在正常状态下运行,因此造 成了混床内阳树脂是Na+H型,阴树脂是一SiO,型,再生不易分层. 为了进一步确认出现问题原因,我们分别对阴床树脂,混床树脂取 样试验分析. 3试验研究分析 3.1阴床树脂试验 1)碱液浸泡试验.阴床树脂用无硅水冲洗干净至无杂物,各取 树脂10OmL,分别用常温,4O℃的4%,6%,8%NaOH溶液(2倍树脂 体积)进行浸泡,8h后分别取浸泡液分析其硅含量,结果浸泡液中硅 50mg/L~右,说明阴树脂受到一定程度的”硅污染”,这也是阴床再生 后硅冲洗不下来的原因.2)灰化试验.阴床树脂用无硅水冲洗干净, 取适当样品烘干后,准确称取一定量的树脂,充分高温灼烧至衡重,计 算其硅含量,验结果阴床树脂中未灰化物含量占树脂重量的0.2%左右. 对灰化残留物进行了熔融,通过分析测试,硅含量为99.5%左右,说明 灰化残留物中主要成分是硅酸盐.3)树脂性能试验.根据相关标准, 我们对阴床树脂做了性能试验,试验结果树脂的含水量,体积交换容量 指标合格,渗磨圆球率55.8%tt标准低近20%,说明阴床树脂机械性能已 明显下降. 树脂机械性能的下降,会导致树脂破碎,破碎的树脂在反洗时排出 或在运行时漏过通流部分进入后级设备,床内树脂呈不规则形状,使树 脂层高下降,交换容量降低,水流阻力增加,污染后级设备中的树脂, 导致系统出水水质下降. 3_2混床树脂试验 1)碱液浸泡试验.混床树脂用无硅水冲洗干净,各取树脂1clOmL, 用4|D的4%,6%,8%NaOH液浸泡.8h后,取浸泡液分析其硅含量. 结果如下.混床树脂经过4%,6%,8%NaOH溶液浸泡后,其浸泡液 中硅含量基本一致;同样体积树脂,混床中阴树脂体积量要比阴床少 得多,但浸泡液中硅含量220m左右,是阴床树脂浸泡液的4～5倍,说 明混床阴树脂深度”硅污染”.2)树脂分层试验.取树J]~lOOmL放人 烧杯,在40下,用8%的NaOH200mlL浸泡,时间8h.然后,用无硅 水清洗后在量筒中做分层试验,结果可以分层.3)混床树脂渗磨圆球 率试验.混床树脂经过分层后,我们分别对阳树脂,阴树脂做了渗磨圆 球率试验,测定结果机械性能混床阴树脂55.08%,比合格指标低15%左 右;阳树/N12.22%,比合格低53%左右,说明树脂的机械陛能均明显下 降,特别是阴树脂.这直接影响混床的周期制水量和出水水质. 4结论 1)水源的改变使水质中活性硅含量升高至原来2倍,而预处理系统 只有空擦滤池,对活性硅的去除基本不起作用,同时补给水处理系统运 行和再生方式又没及时调整,致使阴床树脂一定程度受到”硅污染”. 2)再生后阴床树脂经NaOH溶液浸泡后,其浸泡液中硅含量仍然有 50m