扬州某半导体企业生产废水处理工程设计方案.doc

滨江学院 毕业论文(设计) 题 目 扬州某半导体企业生产废水处理工程设计方案 学生姓名 王磊 学 号 20052343003 院 系 滨江学院 专 业 环境工程 指导教师 张慧 二ＯＯ九 年 五 月 二十九 日 目 录 1.企业概况 1 2.生产废水概况及处理要求 1 2.1 废水量 2 2.2废水污染物浓度 2 2.3处理要求 3 3.废水处理工艺的选择 3 3.1除氟工艺设计 4 3.1.1石灰－铝盐沉淀法 4 3.1.2除氟工艺流程 4 3.2除磷工艺设计 5 3.2.1石灰－铝盐沉淀法 5 3.2.2除磷工艺流程 6 3.3除COD和氨氮的工艺设计 6 3.3.1曝气生物滤池工艺 6 3.3.2曝气生物滤池工艺流程 7 3.4废水处理工艺流程设计 7 3.4.1废水处理工艺流程 8 3.4.2混凝的注意事项 8 4.构筑物的设计计算与设备选用 9 4.1调节池 9 4.2混合－絮凝（混凝）反应池A 10 4.3一沉池（斜管沉淀池） 13 4.4厌氧池 14 4.5曝气生物滤池 15 4.6混凝反应池B 19 4.7二沉池（斜管沉淀池） 20 4.8清水池 21 4.9污泥浓缩池 22 4.10主要构筑物和设备一览表 22 5.废水处理站平面与高程布置 23 5.1废水处理站平面布置 23 5.1.1平面布置原则 23 5.1.2平面布置 23 5.2废水处理站高程布置 24 5.2.1高程布置原则 24 5.2.2高程布置 24 6.工程投资概算 24 7.工程运行成本核算 25 7.1药剂成本 25 7.2电耗成本 25 7.3人力资源成本 25 7.4运行总成本 25 7.5废水处理成本 26 8.设计方案效益评估 26 8.1环境效益 26 8.2社会效应 26 8.3经济效益 26 9.设计依据 26 10.结论 27 参考文献 27 致谢 29 扬州某半导体生产废水处理工程设计方案摘要：半导体生产过程中使用了大量繁多的酸碱、各种有机和无机物，并有许多有毒有害物，对环境危害较为严重关键词： 从国家经济发展、工业布局和产业导向来看，信息产业将是未来重点发展的行业之一。其中，半导体行业作为信息产业的基础，将会有迅猛的发展。半导体行业作为高新产业往往被人误解是清洁产业；但事实上，半导体生产过程中使用了大量繁多的酸碱、各种有机和无机物，并有许多有毒有害物，对环境危害较为严重。而随着该行业的快速发展，其对环境的影响及压力势必有所增加，如不加以控制，将会产生较大的环境污染。企业概况扬州某半导体制造，是专业研制、开发、销售半导体器件的企业。公司占地面积6.5万平方米，固定资产1.9亿元，职工千余人。主要产品：各种系列的芯片、晶体管、YCR/YTR系列单/双向可控硅等。作为产量最大的制品，芯片的生产过程具有半导体器件典型的代表性，生产程序比较复杂，且污染严重如其中的硅片打磨清洗，不仅耗能耗水，而且有大量的悬浮颗粒排出，带来环境压力同时造成物料的损失。其他生产工艺也带来巨大的环境危害。例如：由于大量使用氢氟酸、氟化铵、磷酸和其他各种有机溶剂，废液中含有大量的氟离子、磷COD和氨氮。含氟磷的废水目前该企业尚无完善的处理设施，所排放的废水中氟、磷含量指标未达到国家排放标准。 企业年代久远，工艺落后，已经严重阻碍了公司的发展。企业搬入工业园区，工艺设备和电气设备更新换代。半导体生产耗能耗水，且污染严重，该企业已经被江苏省列为强制性清洁生产企业，清洁生产工作已经于2008年末全面开展。作为清洁生产的高费方案之一，新厂区的重要组成部分，新建处理系统筹划工作已经开展。2.生产废水概况及处理要求2.1 废水量内有打磨清洗车间和生产车间各一个排口，经过管道汇总到污水处理站，经过简单处理，排放到自然纳体河中。公司每天废水排放20小时。三个排口的废水流量见下表监测点 打磨清洗车间 生产车间 总排口 流量 3/h 55 m3/h 约58/h 60 m3/d 1100 m3/d 约1160/d 2.2废水污染物浓度由于要进行污水处理系统的建，对全厂的主要污染物重新监测，，两个小时一次，24小时连续监测。监测数据汇总如下 污染物最大值mg/污染物最小值mg/ pH SS COD 氨氮 TP F- pH SS COD 氨氮 TP F- 打磨清洗车间 － 550 － － － － － 233 －