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集成电路可制造性设计工具 引言 关于新一代集成工艺仿真系统 §1 Sentaurus Process工艺级仿真工具 §1-1 Sentaurus Process的安装及启动 §1-2 创建Sentaurus Process批处理卡命令文件 §1-3 Sentaurus Process批处理命令语句 §1-4 Sentaurus Process所设置的文件类型 §2 Sentaurus Process的仿真功能及交互工具 §2-1 Sentaurus Process的仿真领域 §2-2 Sentaurus Process数据库浏览器 §2-3 Sentaurus Process图形结果调阅工具 §3 Sentaurus Process所收入的近代模型 §3-1 离子注入模型 §3-2 小尺寸扩散模型 §3-3 局部微应力变化模型 §3-4 基于原子动力学的蒙特卡罗扩散模型 §3-5 氧化模型 §4 Sentaurus Process工艺仿真实例 §4-1 工艺制程设计方案 §4-2 工艺仿真卡文件的编撰 §4-3 仿真实例卡文件范本 §4-4 工艺制程仿真结果 §4-5 工艺仿真结果的分析 §5-2 使用SDE由Process到Device的接口 §5-3 使用SDE创建新的器件结构 图11.5 90nm NMOS管芯的三维结构