TiSiN+纳米薄膜的微结构及力学性能研讨.pdfVIP

! 冬 ， 斤 f L ‘ 卜 L 卜 ‘ 卜 ‘ 么 咨 1 Ti-Si一纳米薄膜的微结构及力学性能研究 砂 f 不 映 r J . Arm红’，孑L向阳’，戴嘉维’，李戈扬 ，‘2 牙 洛 ， ‘ 终 (I.上海交通大学余属基复合材料国家里点实脸室，上海200030;2.苏州大学薄膜材料实验室，苏州215006) 护 摘 哭:采用多犯磁拉抢城的方法沉积r-Si-N系纳 广泛的兴趣。本文采用多祀反应浓射工艺。制备了 米浇合膜.利用XRD,TEM 以及EDS千手段分析 不同 i含t的r-Si-N系薄膜.研究了其相组成及 7薄膜的相姐成及徽结构.研究结果表明，薄膜以 徽结构与薄膜力学性能的关系。 TiN为主晶相，并有一定蚤的S几N,俗合物相存在. 这些化合幼LO晶或纳术晶A0TtN晶界相分布，抑