电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研讨.pdfVIP

■口 觚 材 种 2006年增刊(37)卷 电弧离子镀氮化铬涂层的沉积工艺研究。 李明升1一，冯长杰2，王福会2 I (1．江西科技师范学院江西省材料表面工程重点实验室，江西南昌330013 2．中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室．辽宁沈阳110016) 摘要： 氮化铬陶瓷涂晨具有低的磨擦系数、高的硬 体脉冲偏压对涂层的表面熔滴、沉积速率及相结构的 度、良好的熬穗定性和抗腐蚀性，被认为是最有希望的 TiN替代材料之一。本研兜利用脉冲偏压电孤矗予饿 体№分压及基体脉冲偏压所起的不同作用，并对所量 设备，以不同的沉积工艺在1CrllNi2W2MoV不错钢现的差异做了原理上的探讨。这对进一步理解电弧离 基体上沉积了氮化铬陶瓷涂晨，研究了基体上脉冲偏 子饺的工艺原理及涂层优化具有重要意义。 压的施加覆沉积过程中反应气体N2分压对氮化铬涂 2实验方法 屡的表面熔滴、沉积速率厦相结构的影响规律。探讨 了偏压及N2分压在涂屡沉积中的作用机制。 采用真空感应炉熔炼制鲁的纯cr靶材，基体材料 关■调：电弧离子镶；氮化铬；N2分压；双极脉冲偏 压 中圈分类号：TN305．8 文献标识码：A 样，经过机械研磨、抛光和化学试剂(丙酮及酒精)超声 文章编号：1001-9731(2006)增刊-0792—04清洗等顼处理过程。在膜层物质沉积之前，要对基片 进行离子轰击，目的是进一步清除表面的氯化物及其 1 引 育 它污物，提高涂层和基体之问的结合强度。为研究Nt 利用气相沉积技术在材料表面沉积氮化物、类金 分压的影响，沉积过程中气体(N2+Ar)总压力为0．8 刚石等超硬涂层可以显著提商材料的硬度和耐磨性。 Pa，通过质量流量计调节N2和Ar的流量来改变N2 特别是氮化物。由于沉积工艺较成熟、装饰性好等特点 被广泛用作刀具、模具的耐磨涂层和小五金的装饰涂 它沉积参数保持恒定，具体如下。沉积温度400℃，电 层。但在550℃以上TiN会迅速氯化而失去耐磨防护 弧电压20V，电弧电流60A，基体偏压峰值一450V、频 或装饰作用[1—3】。氮化铬陶瓷涂层不但具有低的磨擦 系数和商的硬度，而且在高温下表面会形成具有保护 30rain。为研究偏压的影响，沉积过程中N2压力为 性的Cr=Os膜，因而具有更好的抗氧化性。因此CrN 被认为是最有希望的TiN替代材料之一“]。随沉积 技术的不同和工艺参数的不同，氮化铬的化学组成可 下。沉积温度400℃，电弧电压20V，电弧电流60A， 以是bcc CrN的单相膜，也可以 Cr、hexlg-Cr=N或fcc N或争Cr2N／CrN等复相膜D]。 靶／基距20cm，沉积时间20rain。 是Cr／fl-Crz 在电弧离子镀沉积氮化物涂层的过程中，N。分压 涂层表面形貌在扫描电镜(SEM)上获得，沉积速 和基体偏压是两个可以方便控制的参数。他们对熔漓 率通过扫描电镜下测得的涂层截面厚度除以沉积时间 形成、涂层成分、沉积速率、涂层结构及温度控制有重 获得，相结构以D／MAX—RA型X射线衍射谱仪上测 要影响[6~。]。以往的研究表明，以电弧离子镀沉积定。 ． TiN、(Ti，A1)N等涂层，涂层的表面熔滴、沉积速率及 3实验结果及讨论 结构等随N。分压和基体偏压的变化而呈现出一致的