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铜钴纳米多层膜的制备，结构及巨磁阻性能的研究 113
铜钴纳米多层膜的制备，结构及巨磁阻性能的研究
胡滢，曹为民，印仁和，曾绍海，王慧娟
(上海大学理学院化学系，上海200436)
多层膜的工艺条件，为得到优良的多层膜巨磁阻材料，镀液体系中加人了自制的添加剂．并用扫描电镜(sEM)表征了多层膜的断面
明多层膜具有超晶格结构用物性测量系统(PPMs)测试了cn／cu多层膜的巨磁阻(GMR)性能，GMR值达到52％
[关键词] 电沉积c∥cu纳米多层膜x射线衍射巨磁阻效应
andthe of
Electrochemical Structure，
DepositionStudy
of
Giant Co／Cu
MagnetoresistenceMllltilayers
HU
Ying，CA0Wei—mjn，
ⅥNRen—he，zENGsh∞一hai，YUwen—qi“g，wANGHuj—juan
0f
(Seh001 200436，China)
Science，Shanghai
Universi‘y，Shanghai
method boric
Abstrac：t：Co／Cu double—bath acid
multilaye碍were containing
preparedbyusing
conditioIls orderto havebeen
we地studied，inget muItiIayer，addmvesstu出ed，the
technol0舀cal 900d
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Keywords：Electmcry咖Uization，Cobal∥C叩permultilayers，X—ray
国外文献也未见报道
1 前言
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