35~125m三波段宽带红外Ge窗口多层增透膜的研制研究.pdfVIP

35~125m三波段宽带红外Ge窗口多层增透膜的研制研究.pdf

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3.51 2.5m三波段宽带红外Ge窗口多层增透膜的研制 王懿哲朱福荣张凤山 摘 膜系设计、制备工艺及光学、机械性能测试结果。该元件可应用于空间红外遥感系统。 关键词红外窗口,宽带增透 1.引 言 在空间红外遥感系统中,Ge窗口是1F常重要的光学元件。这是因为Ge具有比较宽的红外透明区 域,同时价格又不是十分昂贵。使用Ge窗口一股都要求在Ge表面镀制增透膜系,一方面,Ge表面 增透提高了光瞳入射光的利用效率,另一方面,由于Ge表面的反射率比较高,如果不进行增透,像 质会因形成“鬼影”而出现通道问的串绕…。在用于气象卫星的探测系统中,通常要求Ge窗口能够 因此,必须在Ge窗口上镀制多层宽带增透膜。同时,由于空间应用的特殊性,要求膜层有良好的牢 固度,致密度,耐热、冷冲击性以及抗潮解性等。因此除了要满足需要的光谱特性外,还对膜层材料 的选择、膜系结构设计以及工艺选择都有特殊的考虑心】[31。 本文针对空间红外技术中对薄膜材料的特殊要求,对比常见低折射率材料,提出采用YbF3来代 外两种常见红外材料Ge、ZnS结合在Ge基片上制备三波段红外窗口的膜层安排、膜系设计、监控丁 艺安排,并给出了相关的透射光谱测试结果及膜层可靠性试验结果。 低折射率材料的选择 宽带多层增透膜常常需要三种或三种以上的材料。对材料的基本要求是:透明区间宽,吸收损耗 小,可靠性高。一般来说,高折射率材料比较容易获得,如Ge、ZnS都是在中远红外区优良的镀膜材 料。但是,选取合适的低折射率材料并不容易,因为虽然常见的氟化物都属此类,但氟化物膜大都是 多孔柱状、低密集度的软膜,容易吸收水汽,导致元件的耐久性变差,并不适合空间光学应用。比如, 常见的镀膜材料MgF2,是所有氟化物中最牢固的,在光学工业中作为增透膜材料应用极为厂1‘泛,但 是由于MgF2膜具有极高的张应力,高温基板蒸镀的膜层在低温(~lOOK)时容易出现龟裂。同时, MgF2聚集密度比较低,室温下只有0.75左右,膜层间隙内容易吸收水分导致光学特性恶化,从而降 低了薄膜元件的可靠性【41。曾经广‘为使刖的低折射率氟化物是TIlF4,无论从光学性质还是从机械性能 来看,ThF4都具有优良的品质【2I,但是,Th元素有先天不足的缺点——放射性,不仅对人员和环境有 危害,而且会造成探测器的老化,人们纷纷寻找能够替代ThF4的镀膜材料。已经有一些入做了大量 的工作¨儿引。根据我们的经验,YbF3是一种比较合适的低折射率层材料。选择这种材料,不仅因为 它的蒸发温度低,适合我们的热阻蒸发设备,而且具有比较低的应力系数和良好的机械性能。文献【6】 报道了采用电子束蒸发、250℃、速率2.3—7.5A/s时镀制在不同材料基片上的机械性能试验,从结果可 以看出,可以用它来代替nF4。当然,还需要合适的膜系安排和后处理工艺。另外两种较高折射率红 外材料,我们采用了常用的Ge和ZnS。实践表明,用它们可以实现比较优良的红外宽带增透元件。 材料光学特性试验 176 ————————————————————————————————————————二二—I二:.:乙=:二:二二——.一 2003年卜一省(市)光学学术会议论文集 任何材料的折射率都存在对波长的色散特性,尽管住红外区这种 色散不是非常显著,但是对f3.5~12.5m这样的带宽来说,折射率的 ●幡 色散是不可忽视的。同时,由于膜层的光学常数受镀制L艺条件(主 ●- 要是基片温度、沉积速率和真空度)的影响很大,有必要寻求最佳的 ‘时 ● 粤·¨ r:艺参数并确定在此条件下单层膜的光学常数。材料特性试验的另一 c 个作用是确定各种材料的长波吸收限,并据此对膜系进行调整。 ●●t 图1给出了不同材料的试验结果。 ●●● 4.膜系设计 :∞ 高折射率基片的增透,从设计上来说并不存在太人的凼难,但

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