多次纺丝与退火对 ITO 薄膜表面均匀性的影响.pdfVIP

第27卷 第2期 石家庄铁道大学学报 (自然科学版) v。1。27N。．2 2014年6月 JOURNALOFSHIJIAZHUANGTIEDAOUNIVERSITY(NATURALSCIENCE) Jun．2014 多次纺丝与退火对 ITO薄膜表面均匀性的影响 常 溪， 杨立宁， 齐海波 (石家庄铁道大学 材料科学与工程学院，河北 石家庄 050043) 摘要：通过多次纺丝与退火工艺在普通玻璃载玻片上制备ITO透明导电薄膜，研究了退火 工艺对薄膜表面形貌的影响。结果表明：退火不仅提高了ITO颗粒的洁净程度，同时减小了其 在薄膜表面的粒径分布。多次纺丝与退火可以提高ITO颗粒的覆盖密度，得到致密性比较好、 表面缺陷比较少、表面粗糙度比较小、均匀平整的透明导电薄膜。 关键词：ITO透明导电薄膜；多次电纺丝；退火；表面均匀性 中图分类号：TB43 文献标志码 ：A 文章编号：2095—0373(2014)02—0100—05 氧化铟锡 (ITO)薄膜是一种体心立方铁锰矿结构的宽禁带透明导电材料，具有对可见光高透过率、低 电阻率和较宽的能隙等光电性能，因而被广泛应用于液晶显示器、电致发光显示器、太阳能电池等材料 中…。制备ITO透明导电薄膜的方法有很多，包括真空蒸发沉积法、磁控溅射法、微波ECR等离子体反应 蒸发沉积、化学气相沉积法、喷雾热解法、脉冲激光沉积法、溶胶一凝胶法等 。 电纺丝技术是在高压静电场的作用下，聚合物溶液或熔体产生喷射并最终形成纳米级纤维毡的物理 过程。近几年，利用电纺丝技术制备薄膜得到了广泛的重视和研究。北京工业大学刘建朋 等 研究了 ITO的退火工艺对发光二极管电学性能的影响，结果表明，LED随着退火温度升高和时间的延长其电学性 能有了很好的提高；Venkataetal_l4采用粒子束溅射沉积在玻璃基底上制备了ITO薄膜，研究表明，随着沉 积时间的增加 ，薄膜厚度在增加，薄膜质量与工艺参数关系密切，此工艺制备的ITO薄膜具有 (222)的择 优取向；北京航空航天大学吴东奇 等 在 ITO薄膜表面进行了Ag的微网格修饰，得到了具有 良好周期性 的表面结构，研究表明，这有助于提高 ITO薄膜作为太阳能电池透明电极的陷光性能；大连理工大学赵佳 明等 在柔性基底上制备了ITO薄膜，并对薄膜的结构和光电性能进行了表征，在可见光区平均透射率 为86％，电阻率为3．1×10～；天津大学徐家福 等 采用静电纺丝法制备出了聚氨酯的纳米级纤维薄膜， 并对不同比例电纺丝溶液纺织出的纳米纤维薄膜进行了表面形貌观察等。由于电纺丝因素不稳定性造 成的薄膜均匀性的差异是衡量 ITO薄膜质量的重要指标，本文通过改进制备 ITO薄膜工艺达到了改善薄 膜表面均匀性效果。 1 实验 1．1 实验材料及仪器 (1)实验材料。聚乙烯吡咯烷酮、去离子水、酒精、ITO纳米颗粒。 (2)实验仪器。磁力加热搅拌机、高压直流电源、电子天平、扫描电镜、原子力显微镜、超声波清洗机。 1．2 Ⅱo薄膜的制备 选用表面活性剂PVP作为分散剂 J，按 ITO纳米粉体的质量分数为8％，无水乙醇质量分数为66％， PVP质量分数为25％的配比配制电纺丝溶液，电压为 15kV，喷头型号为直径0．4mm的不锈钢针头，并 控制喷头与接收装置之间的距离为 12ClTI，根据工艺不同采用不同的电纺时间，在普通的玻璃载玻片上制 DOI：10．13319／j．cnki．sjztddxxbzrb．2014．02．22 收稿 日期：2013一o4一o9 作者简介：常溪 男 1987年出生 硕士研究生 石家庄铁道大学学报(自然科学版) 第27卷 SurfaceUniformityofITO ThinFilmsPreparedby RepeatedlyElectro-spinningandAnnealing ChangXi， YangLining， QiHaibo (InstituteofMaterialsScienceandEng