等离子体浸没注入对材料表面改性的研讨.pdfVIP

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2018-01-06 发布于未知
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等离子体浸没注入对材料表面改性的研讨.pdf

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指导小组成员名单：吴晓京教授梁荣庆教授 ● 摘要……………………………………………………………………………1 Abstract．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．2 第一章前言…………………………………………………………………。3 1．1透明光电材料的研究进展…………………………………………………………3 1．1．1透明导电金属氧化物材料概……………………………………………………3 1．1．2透明导电金属氧化物材料的制备工艺…………………………………………4 1．1．3透明导电材料……………………………………………………………………5 ， 1．1．3．1崦03基透明导电材料…………………………………………………………5 1．1．3．2 ZnO薄膜材料…………………………………………………………………．7 1．2多孔硅材料………………………………………………………………………。9 1．2．1多孔硅材料概述…………………………………………………………………9 1．2．2多孔硅的发光机制讨论…………………………………………………………9 1．23多孔硅材料的制备……………………………………………………………．10 1．3等离子体浸没注入技术…………………………………………………………12 1．3．1传统的束线注入………………………………………………………………。12 1．3．2等离子体浸没注入技术………………………………………………………．13 1．3．3等离子体浸没离子注入的应用………………………………………………．14 1．3．4等离子体浸没离子注入的发展………………………………………………．15 1．4本论文工作…………………………．．：…………………………………………17 1．5本论文工作的创新点……………………………………………………………17 第二章等离子体浸没离子注入实验装置…………………………………19 2．1等离子体浸没离子注入总体系统………………………………………………19 2．2真空系统…………………………………………………………………………2l 2．3等离子体源………………………………………………………………………21 2．4脉冲高压电源……………………………………………………………………22 第三章PIII注入的软件模拟和剂量计算…………………………………25 3．1SRIM软件模拟…………………………………………………………………一25 3．1．1SRIM软件的介绍………………………………………………………………25 3．1．2 SRIM软件的应用………………………………………………………………26 3．2剂量计算…………………………………………………………………………31 第四章PHI注入及性能表征………………………………………………．33 4．1In203基透明导电薄膜改性………………………………………………………33 ● 4．1．2 PHI材料表面注氮处理………………………………………………………33 ● 4．1．3薄膜材料的表征………………………………………………………………34 4．1．4小结