XPS研究溅射氩气压对玻璃基DyFeCoAlN磁光记录薄膜成分的影响研究.pdfVIP

XPS研究裁射氛气压对玻璐基DyFeCo/AIN 磁光记录薄膜成分的影响 赵青南 ‘赵修建，王 奉2熊 锐3李佐宜3 {1.武汉工业大学材料复合新技术国家里点实脸室 武汉 430070 2，中南工业大学分析中心 长沙 4100$3; 3.华中理工大学固电系 武汉 430074) 二 恤x射。光电子能诺(XPS)研究了射。。拉流射法在玻确苏表面上例备 的DyFeCo/AIN滋光记录薄膜的表面成分随城封级气压的交化关系小结果表明: (I)在较高的级气压下，薄腆中Dy元素的成分比侧软高;随若低气压的降低，薄膜 中Dy元素的成分比例逐渐地减少，N.Fe和Co元素的成分比例瑞渐增加;(2)在 软奏的红气压下，Fe2p,Co2p的XPs高分拢谁中显示出徽弱岭振漱峰，表明此时 el有少A的和Co被教化;面在低级气压下，Fe2p,Co2p的XPS高分辨谱中没有 显示出报徽蜂;(3)AIN保护层上除了N,AI组成外，还存在大盆的筑，部分AIN被 氛化成了A1Z030 关翻 XPSDyFe,}oit)`梦掀 *fI成分A1“保护层 稀土，过挂族金肠的非晶垂直陇化麟作为可拱写成光盘材料有很多优点，它是且前推一 能浦足盛光记录介质所需各种要求的薄膜材料。从样品的性能上来看，用TbFaCo制备的 滋光称簇较佳，但是它的价格比较昂贵。衍Fec。非晶腆与ThFeC6薄腆相比其有相近的居 里退度、盛光K，角和反射角，而且在价格上比TbFeCo薄膜便宜得多。因此，DyFeCo薄 膜作为徽光盘a)记录介质引起了人们的被大兴裸。粉土一过渡族金属的非晶垂直准化腆在 空气中会遥渐筑化，使它的性能恶化。二般认为，级首先和稀土元素结食，当级过喇时才和 过渡金月元幸结合。为了提高薄膜自身的抗载化能力，往往采取改变薄腆制备工艺条件的 方法，使成的组成与结构有一个较好的匹配，并在膜上加保护层。XPS是一种表面分析技 术，它的有效信息深度大约在IOn。左右，可以表征出薄膜表面的组成与离子状态。本文用 x射线光电子能璐(XPS)方法研究了裁射功率、翻射时间和派射花成分不变条件下，射孩破 控口射法在玻劝基上制备的DyFeCo/AIN(保护层)滋光薄腆的表面成分及Fe和Co元索的 载化情况艘徽射妞气压的关系，并对得到的结果进行了讨论。 1实毅 1.1祥晶翻. 玻瑞基片采用化学法清洗。用射频磁控截射法在清洁的玻瑞基片上制备DyFeCo磁光 716 一— 一一叉一刃下一万下 — 一 薄腆，采用的工艺条件是:(1)裁射功率:300W;(2)本痛x空:1.07X10-4Pa;(3)靶材成分: 在FeggCoi碑四周贴纯Dy片，犯的直径0二100mm;(4)浓射时间:4min;(5)戮射组气压: 0.3Pa到1.2Pa变化，基片水冷。试样编号与截射红气压的对应关系见表1.AIN保护层的 制备条件为:戮射气压比Prn:PA,二1:4,戮射时间:lomin, 班1试样幼号与翻绷扭气压的对应关派 LZ 盆护5润城 x射线光电子能谱(XPS)测试所用仪器为英国V.G公司的V.GE$CALABMKII多功 能电子能磨仪系统，激发源为MgKa射线或AIK。射线，功率为20OW，分析室真空为1.0‘ 10-6Pao样品分析前用叙离子(ArRV25nA)截射30s，去除表面污染，用XPS分析AIN 保护层;然后再派射15min去除AIN保护层，分析厉FeCo磁光薄膜表面组成。 2 结果与讨论 2.1AIN保护层的裹面组成 图1是试样AIN保护层的XPS全谱(用AIK。射线作激发源)。从图1中可见，试样表 面除含有Al,N元素外，还含有大量的。元萦及少f的Dy:没有出现Fe和Co的信息;徽t 的C来源于XPS仪的油扩散泵,Ar的信号是红离子溯射时引人的。根据Ols高分辨谱的 拟合谁线可知(见图2中盛线)，氧以三种状态存在，对应的结合能峰值分别为530.00. 531.65和533.l0eV。对照标准数据和谱图可知，结合能峰值531.65和533.10eV分别是 杨。，和吸附氧对应的Ole结合能;至于530.00cV对应的是那一种筑状态，还有待于进一 步考寒，可能其中有一部分对应与Dr形成暇化物的Ole.表2是薄腆表面元素的原子百分 比