外磁场作用下磁流体薄层光学特性研讨.pdfVIP

中国工程热物理学会 传热传质学 学术会议论文 编号：083260 外磁场作用下磁流体薄层光学特性研究∗ 方晓鹏 宣益民 李强 （南京理工大学动力工程学院，南京210094） Tel：（025Email：ymxuan@mail.njust.edu.cn 摘要：基于磁流体的微观聚集结构，本文建立了研究磁流体薄层的光学性质的模型，运用蒙特卡洛方 法模拟计算了磁流体薄层的光谱透射率，并分析了外加磁场对磁流体薄层透射率的影响。结果表明外 加垂直于磁流体薄层方向的磁场作用时，磁流体薄层的光谱透射率会随着外加磁场强度的增大而增大。 而外加平行于薄层方向的磁场作用时，磁流体薄层的光谱透射率无明显变化，但局部透射率呈现矩形 波式的分布。 关键词：磁流体薄层 光谱透射率 蒙特卡洛法 0引言 磁流体为黑色不透明的液体，但若形成厚度为数 10μm 的磁流体薄层，可以使光透 过。目前，在磁流体光谱透射特性研究方面：K. T. Wu[1] 实验测定了水基和油酸基Fe O 3 4 磁流体薄层的光谱透射率，并研究了粒子的质量份额、外加磁场强度等因素对磁流体薄 层光透性的影响。H.E.Horng[2]实验研究了外加磁场对磁流体薄层光谱透射率的影响，并 发现可以通过改变外磁场强度、磁流体薄层光学厚度和粒子浓度等参数来控制磁流体薄 层的光学透射率。G.Narsinga Rao[3]实验研究了磁粒子的粒径、薄层厚度、外加磁场等 因素对磁流体薄层的光学性质的影响。以上实验研究均表明磁流体薄层的光谱透射率会 随着外加磁场的变化而改变。 目前，磁流体光谱特性的研究主要局限于实验方面的研究，理论方面的研究甚为缺 乏。从理论上弄清磁流体的光学机理，对于更好地推广磁流体的应用有着积极的意义。 基于磁流体的微观聚集结构，文献[4]用蒙特卡洛方法模拟研究了磁流体薄层的光谱透 射特性，分析了各种因素对磁流体薄层光透性的影响。但由于模拟的磁流体薄层厚度太 小（1.4μm ），外加磁场对磁流体薄层光谱透射率的影响没有体现出来。本文对文献[4] 中的模型进行了修正，运用蒙特卡洛方法模拟了厚度为 3—48μm 的磁流体薄层的光谱 透射率，研究外加磁场对磁流体薄层光谱透射率的影响，并研究这种影响的微观机理。 1物理模型 [5] 图 1 所示为模拟得到的磁流体的微观结构 ，以此结构为一母单元体，在X和Y方向 利用周期性边界条件将其拓展成无限大平板，在Z方向进行有限次拓展得到磁流体薄层。 国家自然科学基金重点项目(No.. 如图 2 所示，光线垂直入射到磁流体薄层的上界面，光线的入射点位置由随机程序产生。 图 1 磁流体微结构单元 图 2 磁流体薄层结构 2 蒙特卡洛法和概率模型 基于以上物理模型，本文运用Monte-Carlo法模拟计算磁流体薄层的光谱透射特性。 即是要跟踪一定数量的入射光线在磁流体薄层内部的传递过程，最终统计入射光线的去 处，是被薄层吸收、反射还是透射。光线在磁流体薄层中的传递主要考虑以下几个过程： （1）在介质内的吸收；（2）被粒子散射或吸收；（3）在界面处的反射或折射。各过程 的概率模型为： [6] （1）光线传递行程概率模型 S =− ln 1− R / κ （1） ( s ) e 式中，S 为光线的传递行程；R 为传递行程随机数